이소연 교수 연구실
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구리 기반 첨단 패키징 배선의 신뢰성 및 계면·공정 제어 연구

Reliability and Process Control of Copper-Based Interconnects for Advanced Packaging

연구 내용

구리 및 구리-은 계열 배선에서 미세 결함(나노보이드)과 계면 거동이 피로 신뢰성에 미치는 영향을 규명하고, 고종횡비 비아 Cu 충진 및 배선 스케일링 소재 공정 조건을 최적화하는 연구

첨단 패키징에서는 고종횡비 구조와 배선 스케일링으로 인해 미세 공극, 계면 열화, 결정립/상 변화가 전기적·기계적 신뢰성에 영향을 줍니다. 본 연구는 Cu-Ag flexible interconnect에서 Ag agglomeration이 유도하는 nanovoids 생성 메커니즘을 기반으로 피로 열화 경향을 해석합니다. 동시에 전자소자 배선용 Cu-Al 합금에서 결정립계 쌍정 경계에 따른 피로 크랙 지연 특성을 반영하여 내구성을 설계합니다. 또한 유리 비아 Cu filling 공정과 확산방지막 포함 배선 소재 솔루션을 연결해 양산 신뢰성 관점의 공정-재료 통합 최적화를 수행합니다.

관련 연구 성과

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연구 흐름

초기에는 구리 기반 유연·배선 구조에서 피로 신뢰성 저하 원인을 전기·기계적 관점으로 분해하고, Ag agglomeration에 의해 발생하는 nanovoids의 생성과 열화 연계를 확인하는 데 집중했습니다. 이후 배선 소재 설계로 확장하여 Cu-Al 합금의 결정립계 특성이 피로 변형 이후 전기저항 증가 억제에 미치는 영향을 정리했습니다. 최근에는 고종횡비 비아 Cu 충진 공정과 배선 스케일링용 소재 솔루션을 연구 과제로 수행하며, 양면 도금 장비 및 확산방지막을 포함한 공정 변수 최적화로 양산 신뢰성을 확보하는 흐름으로 발전하고 있습니다.

활용 가능성

활용 가능성은 알앤디써클 특화 AI 에이전트가 생성한 내용으로, 실제 연구 가능 여부는 연구실과의 논의가 필요합니다.

  • 고밀도 반도체 패키징 배선
  • 고종횡비 glass via Cu 충진
  • 배선 스케일링용 저비저항 소재
  • 금속/초저유전 계면 신뢰성 설계
  • 확산방지막 기반 내열·내전기 특성
  • Cu-Ag 계열 유연 인터커넥트 내구성
  • 피로 크랙 지연형 배선 합금
  • 양산 공정 신뢰도 검증
  • 전자소자용 배선 재료 플랫폼
  • 차세대 극한 스케일 배선 솔루션

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구분

제목

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Effect of Ag Agglomeration-Driven Nanovoids Formation on Fatigue Reliability of Cu-Ag Flexible Interconnects

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제목

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전자소자 배선용 구리-알루미늄 합금 및 이의 제조 방법

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양산 신뢰도를 만족하는 고종횡비 글라스 비아 Cu filling 기술 개발

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고집적 반도체향 차세대 극한 스케일링 배선 소재 솔루션 개발

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고집적 반도체향 차세대 극한 스케일링 배선 소재 솔루션 개발

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