레이저 단일 빔을 출력하는 레이저 소스;상기 레이저 단일 빔을 레이저 멀티 빔으로 변환하여 출력하는 회절 광학계;상기 레이저 멀티 빔을 중심축으로부터 이격시키고 측면 오프셋시켜 출력하는 헬리컬 광학계;상기 중심축으로부터 측면 오프셋된 상기 레이저 멀티 빔의 위치 및 진행 경로를 변경하여 출력하는 스캐너; 및상기 스캐너로부터 출력되는 상기 레이저 멀티 빔을 가공물의 초점면에 조사하여 다공성 패턴을 천공하는 포커스 렌즈를 포함하고,상기 헬리컬 광학계는, 입사면과 출사면이 다른 각도를 가져 상기 레이저 멀티 빔을 중심축으로부터 이격시키는 제1웨지 프리즘; 입사면과 출사면이 다른 각도를 가지고, 상기 제1웨지 프리즘으로부터 수평 거리가 조정되어 상기 레이저 멀티 빔을 측면 오프셋시켜 출력하는 제2웨지 프리즘; 및 상기 제1웨지 프리즘과 상기 제2웨지 프리즘 사이에 배치되어 편광에 의한 종횡 오프셋을 감소시키는 편광판을 포함하고, 상기 제1,2웨지 프리즘은 회전하지 않고 상대적 수평 거리만 조정되며, 상기 편광판은 λ/4 편광판인, 레이저 천공 시스템.