제7항에서,상기 분산매는 물, 메탄올, 에탄올, 이소프로필 알코올(isopropyl alcohol), 부탄올(butanol), 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran), 에틸렌글리콜, 글리세롤, 또는 이들의 조합을 포함하는, 청색광 차단 필름의 제조방법.

기판, 그리고상기 기판 위에 복수의 광결정 입자들이 간격을 두고 규칙적으로 배열된 광결정 패턴을 포함하며,상기 광결정 입자는, 고분자 입자, 및 상기 고분자 입자 표면에 밴드갭이 2.5 eV 이상인 코팅층을 포함하는, 청색광 차단 필름.

제1항에서,상기 고분자 입자는, 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드)[poly(N-isopropylacrylamide), pNIPAM], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-알릴아민)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-allylamine), poly(NIPAM-co-AA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-2-(디메틸아미노)에틸 메타아크릴레이트)[poly(N-isopropylacrylamide-co-2-(dimethylamino)ethyl methacrylate), poly(NIPAM-co-DMAEMA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-2-(디메틸아미노)에틸 아크릴레이트)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-2-(dimethylamino)ethyl acrylate), poly(NIPAM-co-DMAEA)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-아크릴산)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-acrylic acid), poly(NIPAM-co-AAc)], 폴리(N-이소프로필 아크릴아미드-co-메타아크릴산)[poly(N-isopropyl acrylamide-co-methacrylic acid), poly(NIPAM-co-MAAc)], 폴리(N,N-디에틸아크릴아미드)[poly(N,N-diethylacrylamide)], 폴리(N-비닐카프롤락탐)[poly(N-vinlycaprolactam)], 폴리(에틸렌 글리콜)[poly(ethylene glycol)], 폴리(에틸렌 글리콜-b-프로필렌 글리콜-b-에틸렌 글리콜)[poly(ethylene glycol-b-propylene glycol-b-ethylene glycol)], 폴리스티렌(polystyrene), 폴리(메틸 메타크릴레이트)(poly(methyl methacrylate)), 또는 이들의 조합을 포함하는, 청색광 차단 필름.

제1항에서,상기 코팅층은 인듐주석산화물(ITO), 이산화티타늄(Titanium dioxide), 산화아연(Zinc oxide), 또는 이들의 조합을 포함하는, 청색광 차단 필름.

제1항에서,상기 고분자 입자의 크기는 600 nm 이하인, 청색광 차단 필름.

제1항에서,상기 코팅층의 두께는 30 nm 내지 150 nm인, 청색광 차단 필름.

기판 위에 고분자 콜로이드 입자들을 조밀한 단층막(close-packed colloidal monolayer) 형태로 코팅하는 제1 단계, 상기 고분자 콜로이드 입자들을 수축시켜, 복수의 고분자 입자들이 간격을 두고 규칙적으로 배열된 광결정 패턴을 형성하는 제2 단계, 그리고상기 고분자 입자들의 표면에 밴드갭이 2.5 eV 이상인 코팅층을 형성하는 제3 단계를 포함하는, 청색광 차단 필름의 제조방법.

제6항에서, 상기 제1 단계는, 고분자 입자들을 분산매에 분산시킨 후, 고분자 콜로이드 입자들을 규칙적인 육방 격자 형태로 자기조립(self-assembly)시켜 이루어지는, 청색광 차단 필름의 제조방법.

제6항에서,상기 제2 단계는, 상기 단층막에 용액을 가하여, 0 ℃ 내지 100 ℃에서, 1 분 이상 동안 유지시켜 이루어지는, 청색광 차단 필름의 제조방법.

제9항에서,상기 용액은 물, 알코올, 또는 테트라하이드로퓨란(THF)을 포함하는 상기 고분자 입자를 팽윤시킬 수 있는 양용매와 디에틸에테르(diethyl ether)를 포함하는 상기 고분자 입자를 수축시킬 수 있는 비용매, 물과 염의 수용액, 물과 알코올의 혼합 용액, 또는 이들의 조합을 포함하는, 청색광 차단 필름의 제조방법.

제6항에서,상기 코팅층은 물리 기상 증착법(physical vapor deposition, PVD), 화학 기상 증착법(chemical vapor deposition, CVD), 원자층 증착법(atomic layer deposition, ALD), 스퍼터링(sputtering), 열증착법, 또는 전자빔 증착법에 의하여 형성되는, 청색광 차단 필름의 제조방법.

제6항에서,상기 청색광 차단 필름의 제조방법은, 상기 광결정 패턴을 100 ℃ 내지 500 ℃에서, 0.1 시간 내지 5 시간 동안 어닐링(annealing)시키는 단계를 더 포함하는, 청색광 차단 필름의 제조방법.