반도체 공정 수행에 의하여 발생되는 희가스 포함 폐가스를 배출하는 하나 이상의 배기라인(11)과 연결되어 상기 배기라인(11)을 통하여 배출된 폐가스를 임시로 저장하는 하나 이상의 제1버퍼탱크(100)와;상기 제1버퍼탱크(100)에 저장된 폐가스를 전달받아 1차로 압축하는 하나 이상의 제1압축기(210)과,상기 제1압축기(210)에서 압축된 제1압축폐가스를 전달받아 미리 설정된 하나 이상의 제거대상물질을 제거하는 하나 이상의 정제부(220)와;상기 정제부(220)에 정제된 정제폐가스를 전달받아 임시로 저장하는 하나 이상의 제2버퍼탱크(300)와;폐가스회수탱크(510)로 배출되는 가스의 용적을 줄이기 위하여, 상기 제2버퍼탱크(300)로부터 정제폐가스를 2차로 압축하는 하나 이상의 제2압축기(410)와;상기 제2압축기(410)에 의하여 압축된 제2압축폐가스를 폐가스회수탱크(510)로 배출하는 하나 이상의 폐가스배출부(540)를 포함하며,상기 폐가스는 네온을 포함하며,상기 폐가스회수탱크(510)는, 상기 제2압축기(410)에 의하여 압축된 제2압축폐가스를 원격지에 위치되어 희가스를 추출하는 희가스추출설비로 전달하는 것을 특징으로 하는 희가스가 포함된 폐가스 회수시스템.