본 발명은 에나멜로 피복된 전선을 다른 도체와 접촉시키기 위하여 에나멜 피복을 탈피하는데 있어서 탈피되는 에나멜 피복의 위치와 영역을 레이저로 정밀하게 지정하고 정확하며 빠르게 탈피(제거)하는 에나멜 피복 전선 레이저 탈피 시스템에 관한 것으로 테이블과 테이블 상단에 상부하우징을 구비하고 에나멜 피복 전선의 피복을 레이저로 탈피하는 에나멜 피복 전선 레이저 탈피 시스템에 있어서, 테이블의 상면 일부분에 설치되며 하나 또는 하나 이상 다수 또는 어쎄이 상태의 에나멜 피복 전선을 고정시키고 탈피할 부분을 상부에 노출시키며 해당 제어신호에 의하여 에나멜 피복 전선을 수평방향에서 회전시키는 회전구동부; 테이블의 내부 일측에 고성 설치되고 회전구동부에 접속하여 수평방향으로 회전시키는 해당 제어신호를 출력하며 에나멜 피복 전선 레이저 탈피 시스템에 구성되는 각 기능부에 해당 제어신호를 각각 출력하며 감시하는 탈피중앙제어부; 테이블의 상측면 일부분에 고정 설치되며 회전구동부를 이동상태로 설치하고 탈피중앙제어부의 해당 제어신호와 감시에 의하여 Y 축 방향으로 지정된 거리를 반복하여 상부하우징의 외부와 내부에서 전진과 후진의 직선이동하는 제 1 직선이동부; 상부하우징의 내부 일부분에 이동상태로 고정 설치되고 탈피중앙제어부의 해당 제어신호와 감시에 의하여 레이저빔을 발생하여 지정된 영역에 조사되도록 출력하는 레이저발...(이하생략)