| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 챔버 내의 플라즈마 반응에 의해 발생되는 광을 분석하여 광의 세기에 대한 정보를 획득하는 OES;상기 광을 분석하여 광의 세기에 대한 정보를 획득하는 OPMS(Optical Plasma Monitoring Sensor); 및상기 OES의 출력과 상기 OPMS의 출력을 이용하여 상기 챔버 내에서 수행되는 공정의 상태를 진단하는 진단부를 포함하되,상기 OPMS의 출력은 상기 OES의 출력과 다른 정보를 포함하며,상기 OES와 상기 OPMS는 모두 광학 센서로서 상기 광의 세기에 대한 정보를 획득하되 서로 다른 정보를 출력하는 것을 특징으로 하는 공정 진단 시스템. |
| 2 | 제1항에 있어서, 상기 OES와 상기 OPMS는 상기 광 중 oxide 신호의 세기를 검출하고, 상기 공정 진단 시스템은 복수의 메모리 셀들이 적층된 구조를 가지는 NAND 메모리의 증착 공정 또는 식각 공정의 상태를 진단하는 것을 특징으로 하는 공정 진단 시스템. |
| 3 | 제1항에 있어서, 상기 OES의 출력은 광의 점화로부터 안정화시까지의 시간 및 광량의 최대점으로부터 상기 안정화시의 광량의 차이에 대한 정보를 포함하며, 상기 OPMS의 출력은 상기 점화로부터 상기 광량의 최대점까지의 시간에 대한 정보를 포함하는 것을 특징으로 하는 공정 진단 시스템. |
| 4 | 제1항에 있어서, 상기 진단부는 상기 OES의 출력과 상기 OPMS의 출력을 이용하여 플라즈마 점화-안정화 특성을 검출하며, 상기 검출된 점화-안정화 특성을 이용하여 상기 공정의 상태를 진단하되,상기 OES의 출력과 상기 OPMS의 출력은 플라즈마 발광에 대한 서로 다른 광학적 정보를 포함하는 것을 특징으로 하는 공정 진단 시스템. |
| 5 | 챔버 내의 플라즈마 반응에 의해 발생되는 광을 분석하여 광의 점화로부터 안정화시까지의 시간 및 광량의 최대점으로부터 상기 안정화시의 광량의 차이에 대한 정보를 획득하는 제 1 정보 획득부;상기 광을 분석하여 상기 점화로부터 상기 광량의 최대점까지의 시간에 대한 정보를 획득하는 제 2 정보 획득부; 및상기 획득된 광의 점화로부터 안정화시까지의 시간 및 광량의 최대점으로부터 상기 안정화시의 광량의 차이에 대한 정보 및 상기 획득된 점화로부터 상기 광량의 최대점까지의 시간에 대한 정보를 이용하여 상기 챔버 내에서 수행되는 공정의 상태를 진단하는 진단부를 포함하되,상기 제 1 정보 획득부의 정보 및 상기 제 2 정보 획득부의 정보는 서로 다른 광학 센서들로부터 각기 제공된 정보인 것을 특징으로 하는 공정 진단 시스템. |
| 6 | 제5항에 있어서, 상기 정보는 상기 광 중 oxide 신호의 세기와 관련되고, 상기 공정 진단 시스템은 복수의 메모리 셀들이 적층된 구조를 가지는 NAND 메모리의 증착 공정 또는 식각 공정의 상태를 진단하는 것을 특징으로 하는 공정 진단 시스템. |
| 7 | 삭제 |
| 8 | 제 1 막을 생성하기 위한 공정이 수행될 때 챔버 내의 플라즈마 반응에 의해 발생되는 광을 분석하여 제 1 플라즈마 점화-안정화 특성을 검출하는 단계; 상기 검출된 제 1 플라즈마 점화-안정화 특성을 이용하여 상기 챔버 내에서 수행되는 공정의 상태를 진단하는 단계;상기 제 1 막이 생성된 후 제 2 막을 생성하기 위한 공정을 시작하는 단계;상기 제 2 막을 생성하기 위한 공정이 수행될 때 챔버 내의 플라즈마 반응에 의해 발생되는 광을 분석하여 제 2 플라즈마 점화-안정화 특성을 검출하는 단계; 및상기 검출된 제 2 플라즈마 점화-안정화 특성을 이용하여 상기 챔버 내에서 수행되는 공정의 상태를 진단하는 단계를 포함하되,상기 제 1 막이 생성하기 위한 공정시 서로 다른 광학 센서들로부터 제공된 광 분석 결과들을 이용하여 상기 제 1 플라즈마 점화-안정화 특성을 검출하며, 상기 제 2 막이 생성하기 위한 공정시 상기 서로 다른 광학 센서들로부터 제공된 광 분석 결과들을 이용하여 상기 제 2 플라즈마 점화-안정화 특성을 검출하는 것을 특징으로 하는 공정 진단 방법. |
| 9 | 제8항에 있어서, 상기 플라즈마 점화-안정화 특성들은 각기 해당 광의 점화로부터 안정화시까지의 시간, 광량의 최대점으로부터 상기 안정화시의 광량의 차이에 대한 정보 및 상기 점화로부터 상기 광량의 최대점까지의 시간에 대한 정보를 포함하는 것을 특징으로 하는 공정 진단 방법. |
