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극초단 레이저를 이용한 투명 취성 소재 원형 가공 시스템 및 방법
SYSTEM AND METHOD FOR CIRCLE SHAPE PROCESS OF TRANSPARENT AND BRITTLE MATERIAL USING ULTRA SHORT PULSE LASER
특허 요약
극초단 레이저를 이용한 투명 취성 소재 레이저 원형 가공 시스템 및 방법에 대하여 개시한다. 본 발명에 따른 레이저 원형 가공 시스템은, 레이저 빔을 방출하는 레이저 유닛; 상기 레이저 빔의 진행경로에 배치되며, 상기 레이저 빔을 베셀 빔으로 변조하는 광학 유닛; 상기 광학 유닛에 의해 변조된 베셀 빔을 피가공물로 반사시키며, 상기 베셀 빔의 위치를 선형 이동시키는 스캔 유닛; 상기 스캔 유닛에서 반사된 베셀 빔의 초점을 피가공물의 가공면에 위치시키는 포커싱 렌즈; 및 베셀 빔의 위치를 원주 방향으로 이동시켜, 피가공물에 대한 원형 가공이 수행되도록 하는 마이크로 가공 유닛을 포함하여, 전체 원형 가공 시간을 단축시킬 수 있다.
청구항
번호청구항
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피가공물에 대한 레이저 원형 가공 시스템으로서,레이저 빔을 방출하는 레이저 유닛;상기 레이저 빔의 진행경로에 배치되며, 상기 레이저 빔을 베셀 빔으로 변조하는 광학 유닛;상기 광학 유닛에 의해 변조된 베셀 빔을 피가공물로 반사시키며, 상기 베셀 빔의 위치를 선형 이동시키는 스캔 유닛;상기 스캔 유닛에서 반사된 베셀 빔의 초점을 피가공물의 가공면에 위치시키는 포커싱 렌즈; 및베셀 빔의 위치를 원주 방향으로 이동시켜, 피가공물에 대한 원형 가공이 수행되도록 하는 마이크로 가공 유닛을 포함하는, 레이저 원형 가공 시스템.