디엔에스
박리력이 우수한 포토레지스트 스트리퍼
Photoresist stripper with enhanced striping performance
특허 요약
본 발명에 의한 포토레지스트 스트리퍼는 무기 염기, 음이온성 계면활성제, 아민계 화합물 및 물을 포함하며, 상기 아민계 화합물은 폴리에틸렌 글리콜 작용기를 포함하는 것을 특징으로 한다.
청구항
| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 1 | 무기 염기, 음이온성 계면활성제, 아민계 화합물 및 물을 포함하며, 상기 아민계 화합물은 2-(2-(2-(2-아미노에톡시)에톡시)에톡시)에탄올 또는 2-(2-(2-아미노에톡시)에톡시]에탄올이고, 무기 염기 100 g 당 110 내지 140 g의 아민계 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 스트리퍼. |
