(주)선재하이테크
이온빔 조사 장치
Ion-beam irradiation device
특허 요약
실시예는, 공정 챔버에 결합하고 내부에 캐비티가 형성된 제1 하우징; 상기 제1 하우징에 일 측에 배치되는 베이스; 상기 베이스 상에 배치되는 제1 전극; 상기 제1 전극의 상부에 배치되는 제2 전극; 및 상기 제1 하우징의 캐비티에 유입된 기체를 상기 제1 전극 상에 제공하는 가스 순환부를 포함하는, 이온빔 조사 장치를 개시한다.
청구항
번호청구항
1

공정 챔버에 결합하고 내부에 캐비티가 형성된 제1 하우징;상기 제1 하우징에 일 측에 배치되는 베이스;상기 베이스 상에 배치되는 제1 전극;상기 제1 전극의 상부에 배치되는 제2 전극; 및상기 제1 하우징의 캐비티에 유입된 기체를 상기 제1 전극 상에 제공하는 가스 순환부를 포함하는, 이온빔 조사 장치.