| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 실리콘 나노입자 및 흑연 입자를 분산상으로 포함하고 연속상의 탄소체를 포함하는 코어; 및 상기 코어 표면에 위치하는 탄소 코팅층;을 포함하며, 상기 탄소 코팅층의 라만 분광 스펙트럼(Raman Spectroscopy)에서, D 밴드 피크와 G 밴드 피크의 최대 강도의 비(ID/IG)는 1 미만이며, G 밴드 피크의 반치전폭(FG) 은 90 ㎝-1 이하인, 이차전지용 음극재. |
| 2 | 제1항에 있어서,상기 라만 분광 스펙트럼에서, 상기 반치전폭을 형성하는 G 밴드 곡선의 두 교점 중 최저 파수와 상기 G 밴드 곡선 피크의 최대 파수의 차이(DA)와, 상기 두 교점 중 최고 파수와 상기 최대 파수의 차이(DB)의 비(DA : DB)는 1 : 1.1 내지 1.5인, 이차전지용 음극재. |
| 3 | 제1항에 있어서,상기 라만 분광 스펙트럼의 파수 1581.5 내지 1586.0 ㎝-1에서 상기 G 밴드 최대 피크 강도(IG)를 가지는, 이차전지용 음극재. |
| 4 | 제1항에 있어서,상기 이차전지용 음극재는 X선 회절(X-Ray Diffraction, XRD) 패턴의 (111)면으로부터 산출된 실리콘 결정자 크기가 10 nm 이상인, 이차전지용 음극재. |
| 5 | 제1항에 있어서,X선 회절(X-Ray Diffraction, XRD) 패턴에서, 2θ가 26.5±0.5°및 28±0.5°에서 회절 피크를 가지며, 26±0.5°의 피크가 28±0.5°의 피크보다 강도가 더 큰, 이차전지용 음극재. |
| 6 | 제1항에 있어서,상기 이차전지용 음극재는 X선 광전자 분광법(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)을 통한 Si2p 분석 패턴에서, 100±1 eV에서 피크의 강도가 104±1 eV에서 피크의 강도보다 큰, 이차전지용 음극재. |
| 7 | 제1항에 있어서,상기 이차전지용 음극재는 질소 흡탈착 등온선 그래프의 상대압력 0.8(P/P0)에서의 흡착량 차(HI0.8)와 상대압력 0.6(P/P0)에서의 흡착량의 차(HI0.6)의 비(HI0.8/HI0.6)가 1.5 이상인, 이차전지용 음극재. |
| 8 | 제1항에 있어서,상기 탄소체는 소프트 카본인, 이차전지용 음극재. |
| 9 | 제1항에 있어서,상기 탄소체는 석탄계 또는 석유계 피치로부터 유래된 것인, 이차전지용 음극재. |
| 10 | 제1항에 있어서,상기 실리콘 나노입자는 부피 적산 D50에 해당하는 평균 직경이 20 내지 70 ㎚인, 이차전지용 음극재. |
| 11 | 제1항에 있어서,상기 코어 총 중량 중 실리콘 나노입자는 흑연 입자보다 더 많은 함량으로 포함되는, 이차전지용 음극재. |
| 12 | 제1항에 있어서,상기 코어는 이온 전도성 물질을 더 포함하는, 이차전지용 음극재. |
| 13 | 제1항에 있어서,상기 흑연 입자는 천연 흑연 입자인, 이차전지용 음극재. |
| 14 | 제1항에 있어서,상기 음극재는 부피 적산 D50에 해당하는 평균 직경이 8 내지 20 ㎛인, 이차전지용 음극재. |
| 15 | 제1항에 있어서,상기 탄소 코팅층의 두께는 5 내지 200 ㎚인, 이차전지용 음극재. |
| 16 | 제1항 내지 제15항 중 어느 한 항에 따른 이차전지용 음극재를 포함하는 이차전지. |