표면 탄성파를 발생시키는 제1 표면 탄성파 센서, 상기 제1 표면 탄성파 센서에서 발생된 표면 탄성파를 증폭시키기 위한 제1 증폭기, 및 상기 제1 증폭기에 제1 바이어스 전압을 인가하는 제1 바이어스 생성기를 포함하고, 센싱 클럭 신호(sensing clock signal)를 생성하는 센싱 채널(sensing channel);표면 탄성파를 발생시키는 제2 표면 탄성파 센서, 상기 제2 표면 탄성파 센서에서 발생된 표면 탄성파를 증폭시키기 위한 제2 증폭기, 및 상기 제2 증폭기에 제2 바이어스 전압을 인가하는 제2 바이어스 생성기를 포함하고, 기준 클럭 신호(reference clock signal)를 생성하는 기준 채널(reference channel);상기 센싱 채널 및 상기 기준 채널과 전기적으로 연결되며, 상기 센싱 클럭 신호에 기초하여 제1 출력 신호를 생성하고, 상기 기준 클럭 신호에 기초하여 제2 출력 신호를 생성하는 카운터; 및상기 카운터와 전기적으로 연결되는 컨트롤러;를 포함하고,상기 컨트롤러는, 상기 카운터로부터 수신된 상기 제1 출력 신호에 기초하여 상기 제1 바이어스 생성기가 출력하는 상기 제1 바이어스 전압의 크기를 조절하거나, 또는 상기 카운터로부터 수신된 상기 제2 출력 신호에 기초하여 상기 제2 바이어스 생성기가 출력하는 상기 제2 바이어스 전압의 크기를 조절하고,상기 카운터로부터 수신된 상기 제1 출력 신호와 상기 제2 출력 신호의 차이에 기초하여 상기 센싱 클럭 신호와 상기 기준 클럭 신호의 주파수의 차이를 계산하고,상기 계산된 주파수의 차이에 기초하여 입자의 질량을 측정하는, 입자 질량 측정 장치.

제1항에 있어서,상기 제1 증폭기의 이득(gain)은 상기 제1 바이어스 생성기가 출력하는 상기 제1 바이어스 전압의 크기에 비례하고,상기 제2 증폭기의 이득(gain)은 상기 제2 바이어스 생성기가 출력하는 상기 제2 바이어스 전압의 크기에 비례하는, 입자 질량 측정 장치.

제1항에 있어서,상기 제1 바이어스 생성기는 상기 컨트롤러가 출력하는 제1 트림값에 기초한 전압 레벨을 가지는 제1 바이어스 전압을 생성하고, 상기 제2 바이어스 생성기는 상기 컨트롤러가 출력하는 제2 트림값에 기초한 전압 레벨을 가지는 제2 바이어스 전압을 생성하는, 입자 질량 측정 장치.

제3항에 있어서,상기 컨트롤러는 상기 제1 출력 신호를 제1 기준 값과 비교하여, 상기 제1 출력 신호가 상기 제1 기준 값보다 작을 경우, 상기 제1 트림값을 한 단계 증가시킨 뒤에 상기 제1 출력 신호를 제1 기준 값과 다시 비교하고,상기 제2 출력 신호를 제2 기준 값과 비교하여 상기 제2 출력 신호가 상기 제2 기준 값보다 작을 경우, 상기 제2 트림값을 한 단계 증가시킨 뒤에 상기 제2 출력 신호를 제2 기준 값과 다시 비교하는, 입자 질량 측정 장치.

제1항에 있어서,상기 제1 표면 탄성파 센서와 상기 제1 증폭기는 피드백 루프를 형성하고, 상기 제2 표면 탄성파 센서와 상기 제2 증폭기는 피드백 루프를 형성하는, 입자 질량 측정 장치.

제1항에 있어서,일단이 상기 센싱 채널과 연결되고 타단이 상기 카운터와 연결되어, 상기 센싱 채널에서 상기 카운터로 전달되는 상기 센싱 클럭 신호의 전압을 조절하기 위한 제1 버퍼(buffer); 및일단이 상기 기준 채널과 연결되고 타단이 상기 카운터와 연결되어, 상기 기준 채널에서 상기 카운터로 전달되는 상기 기준 클럭 신호의 전압을 조절하기 위한 제2 버퍼를 더 포함하는, 입자 질량 측정 장치.

제1항에 있어서,상기 컨트롤러는,상기 기준 채널에서 상기 기준 클럭 신호가 생성된 시점으로부터 지정된 시간이 경과한 후, 상기 센싱 클럭 신호가 생성되도록 상기 센싱 채널을 제어하는, 입자 질량 측정 장치.

제1항에 있어서,상기 카운터는, 복수의 플립플롭(flipflop)을 포함하는 비동기 카운터이며, 상기 센싱 채널과 전기적으로 연결되고, 상기 센싱 클럭 신호에 기초하여 상기 제1 출력 신호를 생성하는 제1 카운터; 및복수의 플립플롭(flipflop)을 포함하는 비동기 카운터이며, 상기 기준 채널과 전기적으로 연결되고, 상기 기준 클럭 신호에 기초하여 상기 제2 출력 신호를 생성하는 제2 카운터를 포함하는, 입자 질량 측정 장치.

제8항에 있어서,상기 컨트롤러는 상기 카운터의 카운트 동작을 제어하기 위한 마스크 신호를 생성하고,상기 카운터는 상기 컨트롤러로부터 수신되는 상기 마스크 신호에 기초하여 상기 센싱 클럭 신호 또는 상기 기준 클럭 신호의 클럭 수를 카운트하는, 입자 질량 측정 장치.

제9항에 있어서,상기 컨트롤러는 상기 카운터의 카운트 동작이 중단된 시점부터 지정된 시간이 경과한 후, 상기 카운터로부터 상기 제1 출력 신호 또는 상기 제2 출력 신호를 수신하는, 입자 질량 측정 장치.

제9항에 있어서,상기 컨트롤러는 상기 카운터로부터 수신된 상기 제1 출력 신호와 상기 제2 출력 신호의 차이 값을 지정된 포맷으로 변환하고,상기 변환된 상기 제1 출력 신호와 상기 제2 출력 신호의 차이 값과 상기 마스크 신호의 길이에 기초하여 상기 센싱 클럭 신호와 상기 기준 클럭 신호의 주파수의 차이를 계산하는, 입자 질량 측정 장치.

제11항에 있어서,상기 컨트롤러는 디지털 신호로 출력되는 상기 제1 출력 신호와 상기 제2 출력 신호의 차이 값을 십진수로 변환하고,십진수로 변환된 상기 제1 출력 신호와 상기 제2 출력 신호의 차이 값을 상기 마스크 신호의 길이로 나누어 상기 센싱 클럭 신호와 상기 기준 클럭 신호의 주파수의 차이를 계산하는, 입자 질량 측정 장치.

입자 질량 측정 장치의 동작 방법에 있어서,표면 탄성파를 발생시키는 제1 표면 탄성파 센서, 상기 제1 표면 탄성파 센서에서 발생된 표면 탄성파를 증폭시키기 위한 제1 증폭기, 및 상기 제1 증폭기에 제1 바이어스 전압을 인가하는 제1 바이어스 생성기를 포함하는 센싱 채널을 통해, 센싱 클럭 신호를 생성하는 단계;표면 탄성파를 발생시키는 제2 표면 탄성파 센서, 상기 제2 표면 탄성파 센서에서 발생된 표면 탄성파를 증폭시키기 위한 제2 증폭기, 및 상기 제2 증폭기에 제2 바이어스 전압을 인가하는 제2 바이어스 생성기를 포함하는 기준 채널을 통해, 기준 클럭 신호를 생성하는 단계;비동기 카운터를 통해, 상기 센싱 클럭 신호에 기초하여 제1 출력 신호를 생성하는 단계;상기 비동기 카운터를 통해, 상기 기준 클럭 신호에 기초하여 제2 출력 신호를 생성하는 단계; 컨트롤러를 통해, 상기 제1 출력 신호에 기초하여 상기 제1 바이어스 생성기가 출력하는 상기 제1 바이어스 전압의 크기를 조절하거나, 또는 상기 카운터로부터 수신된 상기 제2 출력 신호에 기초하여 상기 제2 바이어스 생성기가 출력하는 상기 제2 바이어스 전압의 크기를 조절하는 단계;상기 컨트롤러를 통해, 상기 제1 출력 신호와 상기 제2 출력 신호의 차이에 기초하여 상기 센싱 클럭 신호와 상기 기준 클럭 신호의 주파수의 차이를 계산하는 단계; 및 상기 컨트롤러를 통해, 상기 계산된 주파수의 차이에 기초하여 입자의 질량을 측정하는 단계를 포함하는, 방법.

제13항에 있어서,상기 센싱 클럭 신호를 생성하는 단계는,상기 기준 클럭 신호가 생성된 시점으로부터 지정된 시간이 경과한 후, 상기 센싱 클럭 신호를 생성하는, 방법.

제13항에 기재된 입자 질량 측정 장치의 동작 방법을 구현하기 위한 프로그램이 기록된 컴퓨터에서 판독 가능한 기록매체.