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감마선 조사 및 히알루론산분해효소 처리에 의한 히알루론산의 저분자화 방법
Method for lowering molecular weight of hyaluronic acid by gamma ray irradiation and hyaluronidase treatment
특허 요약
본 발명은 감마선 조사 및 히알루론산분해효소 처리에 의한 히알루론산의 저분자화 방법에 관한 것으로, 고분자 히알루론산에 감마선 조사 및 히알루론산분해효소를 처리하여 제조된 저분자 히알루론산이 세포 독성이 없으면서 세포 증식률이 우수하므로, 화장료, 약학 및 식품 조성물로 유용하게 활용될 수 있을 것이다.
청구항
번호청구항
1

2,0002,600 kDa 크기의 고분자 히알루론산에 0.20.8 kGy 조사선량으로 감마선을 조사한 후 서열번호 1의 아미노산 서열로 이루어진 스트렙토코커스 피오게네스(Streptococcus pyogenes) 유래 히알루론산분해효소(hyaluronidase)를 3238 units/㎖의 농도로 25160분 동안 처리하는 단계를 포함하는 히알루론산의 저분자화 방법.

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2,0002,600 kDa 크기의 고분자 히알루론산에 0.20.8 kGy 조사선량으로 감마선을 조사한 후 서열번호 1의 아미노산 서열로 이루어진 스트렙토코커스 피오게네스(Streptococcus pyogenes) 유래 히알루론산분해효소(hyaluronidase)를 3238 units/㎖의 농도로 25160분 동안 처리하는 단계를 포함하는 저분자 히알루론산 제조방법.

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