| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 삭제 |
| 2 | a) 베이스 플레이트, 상기 베이스 플레이트의 가장자리면을 노출시키도록 상면에 위치하는 양각면, 및 상기 양각면의 상면에 배열된 마이크로니들들을 포함하는 마이크로구조체를 점적 코팅 공정 공간 내에 제공하는 단계;b) 상기 마이크로구조체 상의 상기 양각면의 가장자리 형상을 검출하는 단계; 및c) 상기 양각면 상에 배열된 마이크로니들들 중 상기 양각면의 가장자리로부터 일정 거리에 위치하는 마이크로니들 하나의 위치 좌표를 검출하는 단계를 포함하는,마이크로니들 점적 코팅 공정의 마이크로니들 좌표 확인 방법. |
| 3 | 제2항에 있어서,상기 b) 단계는,상기 마이크로구조체를 촬영하여 이미지를 획득 후 상기 이미지 내에서 상기 양각면의 가장자리의 음영을 통해 상기 양각면의 가장자리 형상을 검출하는,마이크로니들 점적 코팅 공정의 마이크로니들 좌표 확인 방법. |
| 4 | 제2항에 있어서,상기 c) 단계는,상기 양각면의 가장자리의 사방의 모서리들 중 어느 하나의 모서리에 가장 근거리로 위치하는 마이크로니들 하나의 위치 좌표를 검출하는,마이크로니들 점적 코팅 공정의 마이크로니들 좌표 확인 방법. |
| 5 | a) 베이스 플레이트, 상기 베이스 플레이트의 가장자리면을 노출시키도록 상면에 위치하는 양각면, 및 상기 양각면의 상면에 배열된 마이크로니들들을 포함하는 마이크로구조체를 점적 코팅 공정 공간 내에 제공하는 단계;b) 상기 마이크로구조체 상의 상기 양각면 형상을 검출하는 단계;c) 상기 양각면 상에 배열된 마이크로니들들 중 상기 양각면의 가장자리로부터 일정 거리에 위치하는 마이크로니들 하나의 위치 좌표를 검출하는 단계;d) 검출된 마이크로니들 하나의 위치 좌표를 영점으로 셋팅하는 단계; 및e) 미리 제공된 상기 마이크로니들들 간의 X축 방향 간격 및 Y축 방향 간격에 기초하여 상기 영점으로부터 X축 및 Y축을 따라 이동하면서 상기 각각의 마이크로니들의 첨단부에 목적 물질 용액을 점적시키는 단계를 포함하는,마이크로니들 점적 코팅 방법. |
| 6 | 제5항에 있어서,상기 b) 단계는,상기 마이크로구조체를 촬영하여 이미지를 획득 후 상기 이미지 내에서 상기 양각면의 가장자리의 음영을 통해 상기 양각면의 가장자리 형상을 검출하는,마이크로니들 점적 코팅 방법. |
| 7 | 제5항에 있어서,상기 c) 단계는,상기 양각면의 가장자리의 사방의 모서리들 중 어느 하나의 모서리에 가장 근거리로 위치하는 마이크로니들 하나의 위치 좌표를 검출하는,마이크로니들 점적 코팅 방법. |
| 8 | 베이스 플레이트, 상기 베이스 플레이트의 가장자리면을 노출시키도록 상면에 위치하는 양각면, 및 상기 양각면의 상면에 배열된 마이크로니들들을 포함하는 마이크로구조체가 놓이는 마이크로구조체 캐리어;목적 물질 용액을 상기 마이크로니들들 상에 점적시키는 점적 코팅기;상기 점적 코팅기를 X축 방향을 따라 이송시키는 X축 이송장치;상기 점적 코팅기를 Y축 방향을 따라 이송시키는 Y축 이송장치;상기 점적 코팅기를 Z축 방향을 따라 이송시키는 Z축 이송장치;상기 마이크로구조체의 상기 양각면의 상측 정중앙에서 상기 마이크로구조체에 빛을 조사하고 촬영하는 마이크로구조체 촬영장치; 및상기 점적 코팅기, 상기 X축 이송장치, 상기 Y축 이송장치, 상기 Z축 이송장치 및 상기 마이크로구조체 촬영장치를 제어하는 제어부를 포함하고,상기 제어부는,상기 마이크로구조체 촬영장치를 통해 획득된 이미지로부터 상기 마이크로구조체 상의 상기 양각면의 가장자리 형상을 검출하는 단계; 및 상기 양각면 상에 배열된 마이크로니들들 중 상기 양각면의 가장자리로부터 일정 거리에 위치하는 마이크로니들 하나의 위치 좌표를 검출하는 단계를 수행하도록 구성되는,마이크로니들 점적 코팅 장치. |
| 9 | 제8항에 있어서,상기 제어부는 상기 양각면의 가장자리로부터 일정 거리에 위치하는 마이크로니들 하나의 위치 좌표를 검출하는 단계에서,상기 양각면의 가장자리의 사방의 모서리들 중 어느 하나의 모서리에 가장 근거리로 위치하는 마이크로니들 하나의 위치 좌표를 검출하는,마이크로니들 점적 코팅 장치. |
