기판을 지지하는 지지 부재;전구체 가스를 공급하는 전구체 공급 부재;반응체 가스를 공급하는 반응체 공급 부재; 및상기 지지 부재를 향해 자외선을 조사하는 자외선 조사 모듈을 포함하고,상기 자외선 조사 모듈은,자외선을 방출하는 자외선 조사 부재; 및상기 자외선 조사 부재에서 방출된 자외선이 진행하는 경로 상에 배치되어, 상기 지지 부재 상에 조사되는 자외선의 파장 대역을 조절하는 필터 부재를 포함하는 기판 처리 장치.

제1항에 있어서,상기 필터 부재는,플레이트 구조로 제공되는 필터 바디; 및상기 필터 바디에 배치되고, 기 설정 파장 대역에 대해 투과성을 갖는 적어도 하나 이상의 필터링 렌즈를 포함하는 기판 처리 장치.

제2항에 있어서,상기 필터 바디에는 상기 필터링 렌즈가 복수 배치되는 기판 처리 장치.

제3항에 있어서,복수의 상기 필터링 렌즈 중 적어도 하나가 투과성을 갖는 파장 대역은 나머지가 투과성을 갖는 파장 대역과 상이한 기판 처리 장치.

제3항에 있어서,복수의 상기 필터링 렌즈는 서로 상이한 파장 대역에 대해 투과성을 갖는 기판 처리 장치.

제3항에 있어서,복수의 상기 필터링 렌즈는 상기 필터 바디의 회전 중심에서 기 설정 반경 이격 된 원주 상에 위치되는 기판 처리 장치.

제6항에 있어서,상기 자외선 조사 모듈은,상기 필터 바디에 연결되어, 상기 필터 바디가 회전하는 동력을 제공하는 필터 구동 부재를 더 포함하는 기판 처리 장치.

제1항에 있어서,상기 자외선 조사 모듈은,상기 자외선 조사 부재에서 방출된 자외선을 차단하는 셔터 부재를 더 포함하는 기판 처리 장치.

일측에 자외선 파장 대역에 대해 투과성을 갖는 투과 렌즈가 배치되는 챔버;상기 챔버의 내부에 위치되어, 기판을 지지하는 지지 부재;상기 챔버에 연결되어, 전구체 가스를 공급하는 전구체 공급 부재;상기 챔버에 연결되어, 반응체 가스를 공급하는 반응체 공급 부재; 및상기 투과 렌즈를 향해 자외선을 조사하는 자외선 조사 모듈을 포함하고,상기 자외선 조사 모듈은,자외선을 방출하는 자외선 조사 부재; 및상기 자외선 조사 부재에서 방출된 자외선이 진행하는 경로 상에 배치되어, 상기 지지 부재 상에 조사되는 자외선의 파장 대역을 조절하는 필터 부재를 포함하고,상기 자외선 조사 모듈은 상기 챔버의 내부에 상기 반응체 가스가 있는 상태일 때, 상기 투과 렌즈를 향해 자외선을 조사하는 기판 처리 장치.

챔버;상기 챔버의 내부에 위치되어, 기판을 지지하는 지지 부재;상기 챔버에 연결되어, 전구체 가스를 공급하는 전구체 공급 부재;상기 챔버에 연결되어, 반응체 가스를 공급하는 반응체 공급 부재; 및상기 챔버의 내부에 배치되어, 상기 지지 부재를 향해 자외선을 조사하는 자외선 조사 모듈을 포함하고,상기 자외선 조사 모듈은,자외선을 방출하는 자외선 조사 부재; 및상기 자외선 조사 부재에서 방출된 자외선이 진행하는 경로 상에 배치되어, 상기 지지 부재 상에 조사되는 자외선의 파장 대역을 조절하는 필터 부재를 포함하고,상기 자외선 조사 모듈은 상기 챔버의 내부에 상기 반응체 가스가 있는 상태일 때 자외선을 조사하는 기판 처리 장치.