| 번호 | 청구항 |
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| 15 | 제13항에 따른 이차전지용 도전재를 포함하는, 이차전지용 음극. |
| 16 | 제13항에 따른 이차전지용 도전재를 포함하는, 이차전지용 양극. |
| 17 | 제15항에 기재된 음극과,제16항에 기재된 양극과,상기 양극과 상기 음극 사이에 위치하는 전해질을 포함하는,이차전지. |
| 9 | 제7항에 있어서, 상기 제3 입도는 0.05mm 내지 0.1mm인, 이차전지용 도전재의 제조방법. |
| 10 | 제1항에 있어서, 상기 1차 분쇄 단계는 500rpm으로 수행되는, 이차전지용 도전재의 제조방법. |
| 11 | 제1항에 있어서, 상기 2차 분쇄 단계는 4000rpm으로 수행되는, 이차전지용 도전재의 제조방법. |
| 12 | 제1항에 있어서,상기 3차 분쇄 단계는 4000rpm으로 수행되는,이차전지용 도전재의 제조방법. |
| 13 | 제1항 및 제7항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따라 형성된, 이차전지용 도전재. |
| 14 | 제13항에 있어서,제조되는 도전재는 0.1㎛의 평균 입도를 갖는,이차전지용 도전재. |
| 1 | 이차전지용 도전재의 제조방법이며,원료 물질을 열처리하는 열처리 단계와;상기 열처리된 물질을 분쇄하는 분쇄 단계를 포함하고,상기 열처리 단계는 제1 열처리 온도에서 수행되는 제1 열처리 단계 및 제2 열처리 온도에서 수행되는 제2 열처리 단계를 포함하며, 상기 제1 열처리 온도는 상기 원료 물질의 연화점보다 높고 상기 제2 열처리 온도는 상기 제1 열처리 온도보다 높게 설정되고,상기 분쇄 단계는 제1 입도의 비즈를 활용하는 1차 분쇄 단계, 제2 입도의 비즈를 활용하는 2차 분쇄 단계 및 제3 입도의 비즈를 활용하는 3차 분쇄 단계를 포함하며, 상기 제2 입도는 상기 제1 입도보다 작고 상기 제3 입도는 상기 제2 입도보다 작게 설정되는, 이차전지용 도전재의 제조방법. |
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| 7 | 제1항에 있어서, 상기 제1 입도는 수 mm이고, 상기 제2 입도는 수백 ㎛이며,상기 제3 입도는 수십 ㎛인, 이차전지용 도전재의 제조방법. |
| 8 | 제7항에 있어서, 상기 제2 입도는 0.1mm 내지 0.3mm 인, 이차전지용 도전재의 제조방법. |
