| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 반응조에 세륨(Ce)화합물이 코팅된 전극 및 물이 위치된 상태에서, 상기 전극에 전원이 인가되고 오존이 상기 반응조에서 퍼징되는 단계를 포함하는 미량오염물질 제거방법. |
| 2 | 제 1 항에 있어서,상기 세륨(Ce)화합물은 니켈세륨산화물(NiCeOx)인 미량오염물질 제거방법. |
| 3 | 제 2 항에 있어서,상기 전극은 카본펠트(carbon felt)인 미량오염물질 제거방법. |
| 4 | 제 3 항에 있어서,상기 반응조에 25 내지 35분 동안 퍼징되는 오존의 농도는 5 내지 6.67g/L인 미량오염물질 제거방법. |
| 5 | 제 3 항에 있어서,상기 반응조에 55 내지 65분 동안 퍼징되는 오존의 농도는 13 내지 14g/L인 미량오염물질 제거방법. |
| 6 | 제 3 항에 있어서,상기 세륨(Ce)화합물이 코팅된 전극은, (a) 질산세륨(Ce(NO3)2・6H2O)과 질산니켈(Ni(NO3)2・6H2O)이 혼합되어 제1혼합물이 생성되는 단계; 및 (b) 상기 제1혼합물에서 생성된 세륨(Ce)화합물이 상기 카본펠트에 코팅되는 단계를 포함하는 제조방법으로 제조되는 미량오염물질 제거방법. |
| 7 | 제 6 항에 있어서,상기 (b) 단계에서, 상기 제1혼합물의 pH는 9.5 내지 10.5인 미량오염물질 제거방법 |
| 8 | 제 6 항에 있어서,상기 (a) 단계에서, 상기 제1혼합물에서 니켈(Ni) 대비 세륨(Ce)의 몰 비율이 0.2:0.18 내지 0.2: 0.62이거나, 0.6:0.18 내지 0.6:0.22인 미량오염물질 제거방법. |
| 9 | 제 8 항에 있어서,상기 (a) 단계에서, 상기 제1혼합물에서 니켈(Ni) 대비 세륨(Ce)의 몰 비율이 0.2:0.58 내지 0.2: 0.62인 미량오염물질 제거방법. |
| 10 | 반응조에 물이 위치된 상태에서, 니켈세륨산화물(NiCeOx)이 코팅된 전극에 전원이 인가되고 오존이 상기 반응조에서 퍼징되는 단계를 포함하며,상기 니켈세륨산화물(NiCeOx)이 코팅된 전극은, (c) 질산세륨(Ce(NO3)2・6H2O)과 질산니켈(Ni(NO3)2・6H2O)이 혼합되어 제1혼합물이 생성되는 단계; (d) 상기 제1혼합물이 초음파처리되는 단계; (e) 상기 (b) 단계에서 초음파처리된 제1혼합물이 pH 9.5 내지 10.5로 적정됨에 따라 상기 제1혼합물에서 생성된 니켈세륨산화물(NiCeOx)이 상기 제1혼합물에 투입된 카본펠트에 코팅되는 단계; 및 (f) 상기 니켈세륨산화물(NiCeOx)이 코팅된 상태의 카본펠트가 하소되는 단계를 포함하는 제조방법으로 제조되는 미량오염물질 제거방법 |
| 11 | 제 10 항에 있어서,상기 제1혼합물에서 니켈(Ni) 대비 세륨(Ce)의 몰 비율이 0.2:0.58 내지 0.2: 0.62인 미량오염물질 제거방법. |
| 12 | 반응조에 물이 위치된 상태에서, 니켈세륨산화물(NiCeOx)이 코팅된 전극에 전원이 인가되고 오존이 상기 반응조에서 퍼징되는 단계를 포함하는 수처리 방법. |
| 13 | 내측에 물이 위치된 반응조;상기 반응조에 위치되는 니켈세륨산화물(NiCeOx)이 코팅된 전극; 및상기 반응조에서 퍼징되는 오존을 포함하는 미량오염물질 제거장치. |
