플라즈마를 발생시켜 발생된 플라즈마를 물에 처리하여 산화질소 반응성 종들을 포함하는 플라즈마 생성 산화질소수(PG-NOW)를 환경 오염 박테리아(Micrococcus luteus;M. luteus)에 처리하여 환경 오염 박테리아의 성장을 억제하고, 환경 오염 박테리아의 생존 가능하지만 배양할 수 없는 휴면 상태(VBNC) 형성을 방지하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 생성 산화질소수.

제1항에 있어서, 상기 플라즈마 생성 산화질소수는 48 내지 58ppm의 NO2, 0.18 내지 0.22ppm의 N2O 및 3060 내지 3740ppm의 NO 농도를 갖는 플라즈마를 물에 처리하여 제조된 것을 특징으로 하는 플라즈마 생성 산화질소수.

제1항에 있어서, 플라즈마 생성 산화질소수는 NO2- 농도가 액상에서 1360 내지 1672μM인 것을 특징으로 하는 플라즈마 생성 산화질소수.

제1항에 있어서, 플라즈마 생성 산화질소수는 플라즈마를 물에 처리한 다음, 100 내지 250μM로 희석된 것을 특징으로 하는 플라즈마 생성 산화질소수.

제1항에 있어서, 플라즈마 생성 산화질소수는 환경 오염 박테리아 세포의 형태와 성장 모두에 영향을 미치고, 반응성 질소 종(RNS)을 세포 내 축적하여 지질 과산화를 유발하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 생성 산화질소수.

제1항에 있어서, 플라즈마 생성 산화질소수는 인간 폐 세포에서 환경 오염 박테리아의 감염을 방해하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 생성 산화질소수.

제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 플라즈마 생성 산화질소수를 포함한 세척수.

제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 플라즈마 생성 산화질소수를 제조하는 제조시스템으로서,마이크로파를 발생시키는 마그네트론;마그네트론에서 발생된 마이크로파가 전파되는 도파관;마이크로파가 전달되어 플라즈마 토치가 발생되는 석영관;상기 석영관에 질소(N2)와 산소(O2) 가스를 공급하는 가스공급부;상기 석영관으로부터 증류수가 담긴 증류수 용기에 플라즈마와 반응성 종들이 포함된 가스를 냉각시키는 냉각 채널; 및상기 냉각 채널을 통과한 플라즈마와 반응성 종들이 포함된 가스가 처리되는 증류수를 담은 증류수 용기;를 포함하고,N2는 분당 9.9 내지 1.1 lpm의 유량, O2는 분당 198 내지 202 sccm의 유량으로 석영관에 공급되고,400 내지 420W의 마이크로파 에너지를 이용하여, 입방 센티미터 당 9.5×1012 내지 1.05×1013의 플라즈마 밀도를 나타낼 수 있는 것을 특징으로 하는 플라즈마 생성 산화질소수 제조시스템.