제8항에 있어서, 상기 자기장 발생 장치는 상기 반응기의 내부 공간에서 전자 손실이 큰 위치 또는 인근에 설치되는 것을 특징으로 하는 부산물 처리 장치.

포집부;챔버로부터 부산물이 유입되는 반응기;상기 반응기에 연결된 적어도 하나의 연결부; 및입구가 상기 포집부의 내부 공간에 위치하고 출구가 상기 포집부의 외부에 위치하는 가스 배출부를 포함하되,상기 반응기는 플라즈마 반응을 통하여 상기 유입된 부산물을 파운더로 변화시키고, 가스와 상기 파우더는 상기 연결부를 통하여 상기 포집부의 내부 공간으로 유입되며, 상기 유입된 가스와 파우더 중 가스는 상기 가스 배출부를 통하여 상기 포집부의 외부로 배출되는 것을 특징으로 하는 부산물 처리 장치.

제1항에 있어서, 상기 반응기는,입력부; 및상기 입력부로부터 분기되며, 상호 이격되는 분기부들을 포함하되,상기 부산물이 상기 챔버로부터 상기 입력부를 통하여 상기 반응기 내부로 유입되고, 상기 분기부들의 출구들은 상기 포집부의 내부 공간에 위치하는 것을 특징으로 하는 부산물 처리 장치.

제2항에 있어서, 상기 연결부들 중 적어도 하나는 상기 파우더가 상기 분기부를 통하여 이동하는 속도보다 더 빠른 속도로 이동 가능하도록 하는 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 부산물 처리 장치.

제2항에 있어서, 상기 연결부들 중 적어도 하나는 해당 분기부와 연결되는 입구로부터 출구로 갈수록 폭이 좁아지는 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 부산물 처리 장치.

제1항에 있어서, 상기 가스 배출부는 상기 연결부와 이격된 상태로 상기 연결부의 하단부에 대응하는 위치에 입구가 배열되는 것을 특징으로 하는 부산물 처리 장치.

제5항에 있어서, 상기 가스 배출부의 입구로부터 출구로 갈수록 폭이 넓어지는 것을 특징으로 하는 부산물 처리 장치.

제5항에 있어서, 상기 가스 배출부는 사이클론 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 부산물 처리 장치.

제1항에 있어서,상기 반응기 내부에 위치하며, 상기 반응기 내부의 플라즈마 밀도를 증가시키는 자기장 발생 장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 부산물 처리 장치.

포집부;챔버로부터 부산물이 유입되는 반응기; 및상기 반응기에 연결된 적어도 하나의 연결부를 포함하되,상기 반응기는 플라즈마 반응을 통하여 상기 유입된 부산물을 파운더로 변화시키고, 상기 연결부는 상기 파우더가 상기 반응기로부터 상기 연결부로 이동하는 속도보다 더 빠른 속도로 이동 가능하도록 하는 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 부산물 처리 장치.

제10항에 있어서, 상기 연결부는 상기 반응기와 연결되는 입구로부터 출구로 갈수록 폭이 좁아지는 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 부산물 처리 장치.

포집부;챔버로부터 부산물이 유입되는 반응기; 및입구가 상기 포집부의 내부 공간에 위치하고 출구가 상기 포집부의 외부에 위치하는 가스 배출부를 포함하되,상기 반응기는 플라즈마 반응을 통하여 상기 유입된 부산물을 파운더로 변화시키고, 상기 반응기로부터 출력된 가스와 파우더 중 파우더는 상기 포집부의 바닥에 쌓이고 상기 가스는 상기 가스 배출부를 통하여 상기 포집부의 외부로 배출되며, 상기 가스 배출부는 입구로부터 출구로 갈수록 폭이 넓어지는 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 부산물 처리 장치.

포집부;챔버로부터 부산물이 유입되며, 플라즈마 반응을 통하여 상기 유입된 부산물을 파우더로 변화시키는 반응기; 입구가 상기 포집부의 내부 공간에 위치하며, 상기 반응기로부터 출력된 파우더와 가스 중 가스를 상기 포집부의 외부로 배출시키는 가스 배출부; 및상기 반응기 내부에 위치하여 상기 반응기 내부의 플라즈마 밀도를 증가시키는 자기장 발생 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 부산물 처리 장치.

제13항에 있어서, 상기 자기장 발생 장치는 상기 반응기의 내부 공간에서 전자 손실이 큰 위치 또는 인근에 배열되는 것을 특징으로 하는 부산물 처리 장치.