플라즈마 공정이 수행되는 챔버 또는 챔버에 설치된 센서들로부터 OES 데이터 및 장비 데이터를 획득하는 데이터부; 및 상기 획득된 OES 데이터 및 상기 획득된 장비 데이터를 인공 면역 시스템에 적용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 진단하는 진단부를 포함하되,상기 OES 데이터는 상기 챔버 내에서 발생한 플라즈마 반응에 의한 광 감지 결과를 의미하며, 상기 장비 데이터는 상기 챔버의 부품의 동작을 감지한 결과를 나타내고,상기 인공 면역 시스템은 상기 OES 데이터와 상기 장비 데이터를 구축된 모델의 레이블링 결과에 적용하여 상기 챔버의 부품 이상이 플라즈마 공정에 영향을 미쳤는 지의 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 진단 시스템에 사용되는 공정 진단부.

제1항에 있어서, 반도체 공정 또는 디스플레이 공정에서 플라즈마 공정이 진단되는 것을 특징으로 하는 공정 진단부.

제1항에 있어서, 상기 인공 면역 시스템은 상기 OES 데이터와 상기 장비 데이터에서 값이 변화하는 구간에서만 상기 OES 데이터와 상기 장비 데이터를 상기 인공 면역 시스템에 적용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 판단하는 것을 특징으로 하는 공정 진단부.

플라즈마 공정이 수행되는 챔버 또는 챔버에 설치된 센서들로부터 OES 데이터 및 장비 데이터를 획득하는 단계; 및상기 획득된 OES 데이터 및 상기 획득된 장비 데이터를 인공 면역 시스템에 적용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 진단하는 단계를 포함하되,상기 OES 데이터는 상기 챔버 내에서 발생한 플라즈마 반응에 의한 광 감지 결과를 의미하며, 상기 장비 데이터는 상기 챔버의 부품의 동작을 감지한 결과를 나타내고,상기 인공 면역 시스템은 상기 OES 데이터와 상기 장비 데이터를 구축된 모델의 레이블링 결과에 적용하여 상기 챔버의 부품 이상이 플라즈마 공정에 영향을 미쳤는 지의 여부를 판단하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 진단 방법.

제4항에 있어서, 상기 인공 면역 시스템은 상기 OES 데이터와 상기 장비 데이터에서 값이 변화하는 구간에서만 상기 OES 데이터와 상기 장비 데이터를 상기 인공 면역 시스템에 적용하여 플라즈마 공정 이상 유무를 판단하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 공정 진단 방법.