내부에 소정 깊이를 가지는 홈이 형성된 베이스;상기 홈의 중심부에서 소정 높이 돌출되도록 형성되며, 웨이퍼의 후면을 지지하는 웨이퍼 지지부재; 상기 베이스의 최외각에 위치되며, 웨이퍼 후면으로의 식각액 침투를 방지하는 방지부재;및 상기 웨이퍼 하부 및 웨이퍼 상부 외연에 각각 위치되는 내측 방지부재를 포함하는 실리콘 웨이퍼 식각 장치.

제1 항에 있어서,상기 방지부재가 위치되는 최외각 영역에 그루브가 형성되어 미세한 식각액 침투를 방지하는 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼 식각 장치.

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제1 항에 있어서,상기 방지부재 및 상기 내측 방지부재는 두께가 상이한 오링(o-ring)인 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼 식각 장치.

제1 항에 있어서,상기 내측 방지부재 하측에는 그루브가 형성되는 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼 식각 장치.

제1 항에 있어서, 상기 웨이퍼의 상부에 위치되며, 내부에 빈 공간이 형성된 커버를 더 포함하는 실리콘 웨이퍼 식각 장치.

제6 항에 있어서, 상기 커버의 외연을 따라 복수의 홀이 형성되며,체결 부재가 상기 홀을 관통하여 상기 커버와 상기 베이스를 체결하는 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼 식각 장치.

제1 항에 있어서, 상기 베이스의 양단에는 식각액으로부터 사용자를 보호하는""형상의 그립 부재가 배치되는 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼 식각 장치.

실리콘 웨이퍼 식각 장치의 조립 공정에 있어서, (a) 베이스의 최외각에 식각액 침투를 방지하는 방지부재를 위치시키는 단계;(b) 상기 베이스의 외연에 하부 내측 방지부재를 위치시키는 단계;(c) 웨이퍼를 안착시키는 단계; 및(d) 상기 웨이퍼의 상부에 커버를 위치시킨 후 체결부재를 통해 상기 커버와 상기 베이스를 체결하는 단계를 포함하는 실리콘 웨이퍼 식각 장치의 조립 공정.

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제9 항에 있어서, 상기 웨이퍼는 상기 웨이퍼의 하측 외연이 상기 내측 방지부재에 위치되도록 상기 베이스에 안착되는 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼 식각 장치의 조립 공정.

제9 항에 있어서, 상기 (d) 단계 이전에, 상기 웨이퍼의 상측 외연에 상부 내측 방지부재를 위치시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼 식각 장치의 조립 공정.

제9 항에 있어서, 상기 베이스의 양단에는 식각액으로부터 사용자를 보호하는""형상의 그립 부재를 체결하는 단계를 더 포함하는 실리콘 웨이퍼 식각 장치의 조립 공정.

중심부가 돌출되며, 외연을 따라 소정의 깊이를 가지는 수용홈이 형성된 베이스;내부에 빈 공간이 형성되며, 상기 베이스의 상부에 배치되어 안착되는 웨이퍼를 고정하는 웨이퍼 가이드;상기 웨이퍼 가이드의 상부에 배치되는 방지부재;상기 베이스의 최외각에 형성된 그루브에 배치되는 하부 내측 방지부재; 및상기 안착된 웨이퍼의 상부에 위치되며, 내부에 빈 공간이 형성된 커버를 포함하는 실리콘 웨이퍼 식각 장치.

제14 항에 있어서, 상기 웨이퍼 가이드에 형성된 빈 공간은 상기 웨이퍼의 직경과 동일하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼 식각 장치.

제14 항에 있어서, 상기 하부 내측 방지부재는 상기 웨이퍼 가이드의 빈공간의 외주연을 따라 배치되는 것을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼 식각 장치.

제16 항에 있어서, 상기 웨이퍼의 상부 내측에 위치되되, 상기 웨이퍼를 기준으로 상기 하부 내측 방지부재와 대면하도록 배치되는 상부 내측 방지부재를 더 포함하는 실리콘 웨이퍼 식각 장치.