청구항 6에 있어서,상기 제2 블록은 아크릴레이트 계열 단량체 유래 반복 단위를 포함하는 것인, 고분자 구조체 제조 방법.

청구항 6에 있어서,상기 강유전성 고분자는 이소불화비닐을 포함하는 것인, 고분자 구조체 제조 방법.

청구항 6에 있어서,상기 카이랄 전이제는 리모넨인, 고분자 구조체 제조 방법.

청구항 6에 있어서,상기 공액 디엔 제1 블록은 3-알킬티오펜 단량체 유래 반복 단위를 포함하는 것인, 고분자 구조체 제조 방법.

나선형으로 배열된 공액 디엔 제1 블록 및 상기 제1 블록에 결합된 제2 블록을 포함하는 블록 공중합체; 및 상기 제2 블록에 결합되어 상기 제1 블록을 따라 나선형으로 배열된 강유전성 고분자;를 포함하는 고분자 구조체.

청구항 1에 있어서,상기 공액 디엔 제1 블록은 3-알킬티오펜 단량체 유래 반복 단위를 포함하는 것인, 고분자 구조체.

청구항 1에 있어서,상기 제2 블록은 상기 제1 블록의 양 말단에 결합된 것인, 고분자 구조체.

청구항 1에 있어서,상기 제2 블록은 아크릴레이트 계열 단량체 유래 반복 단위를 포함하는 것인, 고분자 구조체.

청구항 1에 있어서,상기 강유전성 고분자는 이소불화비닐을 포함하는 것인, 고분자 구조체.

공액 디엔 제1 블록 및 이와 공중합 가능한 제2 블록으로 이루어진 블록 공중합체를 카이랄 전이제 및 강유전성 고분자 존재 하에 자기조립하는 단계를 포함하며,상기 제1 블록은 나선형으로 배열되고,상기 강유전성 고분자는 제2 블록과 결합하여 상기 제1 블록을 따라 나선형으로 배열되는 고분자 구조체 제조 방법.

청구항 6에 있어서,상기 자기조립은 블록 공중합체에 대한 상대적인 용해도가 높은 용매를 포함하는 블록 공중합체 용액에 블록 공중합체에 대한 상대적인 용해도가 낮은 용매, 카이랄 전이제 및 강유전성 고분자를 첨가하여 두 용매의 용해도 차이로 인해 수행되는 것인, 고분자 구조체 제조 방법.

청구항 7에 있어서,상기 블록 공중합체는 poly(3-hexylthiophene)-b-poly(methyl methacrylate)　(P3HT-b-PMMA)이고, 상기 용액의 용매는 테트라하이드로퓨란이고, 상기 용해도가 낮은 용매는 n-부틸아세테이트인, 고분자 구조체 제조 방법.