기 설정된 파장대역 내에서 하나의 파장을 갖는 레이저를 조사하는 광원부;상기 광원부로부터 조사된 레이저를 인가받아 서로 다른 위상값을 갖는 패턴을 생성하고, 생성된 패턴을 파장에 따라 이격시켜 샘플로 조사하는 광학계;상기 광학계를 거쳐 샘플로부터 반사된 광을 수광하는 수광부; 상기 광원부, 광학계 및 수광부의 동작을 제어하며, 상기 수광부가 수광한 광의 간섭 패턴을 분석하여 샘플의 성질을 분석하는 제어부를 포함하며,상기 광학계는 파장에 따라 서로 다른 각도로 회절시키거나 분산시키는 광 분산소자를 짝수개 포함하며, 일 광 분산소자는 레이저를 파장에 따라 분산시키는 방향으로 배치되고 다른 일 광 분산소자는 분산된 레이저 방향을 원래의 방향으로 복귀시키는 방향으로 배치됨에 따라, 파장에 따라 입사하는 레이저를 이격시키는 한편, 레이저가 입사시와 동일한 경로로 진행하도록 하는 것을 특징으로 하는 현미경 시스템.

제1항에 있어서,상기 광원부는,기 설정된 파장대역 내에서 연속적으로 파장을 변화시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 현미경 시스템.

제1항에 있어서,상기 광학계는,생성된 패턴을 파장에 따라 이격시키기 위해 회절 격자(Diffraction Grating)를 포함하는 것을 특징으로 하는 현미경 시스템.

제1항에 있어서,상기 광학계는,생성된 패턴을 파장에 따라 이격시키기 위해 프리즘을 포함하는 것을 특징으로 하는 현미경 시스템.

제1항에 있어서,상기 제어부는,상기 광원부만을 제어하여 생성되는 패턴의 위상을 연속적으로 변화시키는 것을 특징으로 하는 현미경 시스템.

제1항에 있어서,상기 제어부는,상기 광원부 및 광학계를 제어하여 생성되는 패턴의 위상을 연속적으로 변화시키는 것을 특징으로 하는 현미경 시스템.