원자층을 증착하는 증착 장치
DEPOSITION DEVICE DEPOSITING ATOMIC LAYER
특허 요약
원자층을 증착하는 증착 장치는 처리 챔버 및 증착 샘플을 증착하는 기판, 기판의 하부에 배치되며 기판에 증착된 증착 샘플의 온도를 조절하는 히터 및 기판의 상부에 배치되며 증착 샘플을 고정하는 커버를 포함하도록 처리 챔버의 내부에 설치된 블록부를 포함하고, 블록부는 복수 개로 구성되고, 복수 개의 블록부는 각 블록부가 블록 형식으로 조립이 가능하도록 구성될 수 있다.
청구항
번호청구항
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원자층을 증착하는 증착 장치에 있어서,처리 챔버 및증착 샘플을 증착하는 기판, 상기 기판의 하부에 배치되며 상기 기판에 증착된 증착 샘플의 온도를 조절하는 히터 및 상기 기판의 상부에 배치되며 상기 증착 샘플을 고정하는 커버를 포함하도록 상기 처리 챔버의 내부에 설치된 블록부를 포함하고,상기 블록부는 복수 개로 구성되고, 상기 복수 개의 블록부는 각 블록부가 블록 형식으로 조립이 가능하도록 구성되되,상기 증착 장치는 상기 복수 개의 블록부를 재치하는 마운트 본체를 더 포함하고, 증착 실험에 따라 사용되는 블록부의 개수에 기초하여 상기 마운트 본체의 홈부에 블록부를 안착시켜 조립이 가능하도록 구성되고,상기 마운트 본체의 각 홈부의 하면에는 상기 각 블록부에 대응하도록 제 1 홀 및 제 2 홀이 형성되고, 상기 제 1 홀을 통해 상기 각 블록부의 기판에 바이어스 전극을 위한 바이어스 전압을 제공하는 DC 파워 공급부 및 상기 제 2 홀을 통해 상기 복수 개의 블록부의 각 기판에 증착된 증착 샘플의 온도를 제어하는 제어부를 더 포함하고,상기 제어부는 상기 제 1 홀 및 상기 제 2 홀을 통해 상기 각 기판에 증착된 증착 샘플의 온도 및 상기 기판에 형성된 바이어스 전극을 독립적으로 조절하고,상기 제어부는 상기 각 기판에 대응하는 각 히터에 인가되는 발열량을 독립적으로 제어하고, 상기 각 기판의 구조에 기초하여 상기 바이어스 전압을 독립적으로 조절하되,상기 복수 개의 블록부는 상기 복수 개의 블록부 간의 인접한 부분이 코팅 물질로 코팅됨으로써 전기적으로 절연되는 것인, 증착 장치.

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제 1 항에 있어서,상기 각 블록부는 상기 기판, 상기 히터 및 상기 커버를 지지하는 홀더를 더 포함하고,상기 홀더는 상기 히터의 하부에 형성된 홀부를 포함하는 것인, 증착 장치.

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제 2 항에 있어서,상기 홀부는 상기 각 기판에 대응하는 히터로 파워를 공급하도록 형성된 것인, 증착 장치.

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