제 14 항에 있어서,상기 제 1 유속 산출부는,흡착세포의 운동성과 주화성에 대한 민감도 상수 및 화학유도물질의 농도구배를 곱함으로써 주화성에 의한 흡착세포의 유속을 산출하고, 흡착세포의 운동성과 촉각주성에 대한 민감도 상수 및 화학유도물질의 농도구배를 곱함으로써 촉각주성에 의한 흡착세포의 유속을 산출하는 흡착세포 거동 모델링 장치.

제 14 항에 있어서,상기 제 2 유속 산출부는,흡착세포의 운동성과 흡착세포의 화학적 전위구배에 의해 확산에 의한 흡착세포의 유속을 산출하는 흡착세포 거동 모델링 장치.

제 15 항에 있어서,상기 흡착세포의 운동성은 위치에 따른 흡착세포의 농도와 재료상수에 의해 결정되는 것인 흡착세포 거동 모델링 장치.

제 16 항에 있어서,상기 흡착세포의 운동성은 위치에 따른 흡착세포의 농도와 재료상수에 의해 결정되는 것인 흡착세포 거동 모델링 장치.

흡착세포의 거동을 모델링하는 방법에 있어서,주화성(chemotaxis) 또는 촉각주성(haptotaxis)에 의한 흡착세포의 유속을 산출하고;확산에 의한 흡착세포의 유속을 산출하고;상기 주화성 또는 촉각주성에 의한 흡착세포의 유속과 상기 확산에 의한 흡착세포의 유속을 합산하여 흡착세포의 전체 유속을 산출하는 흡착세포 거동 모델링 방법.

제 1 항에 있어서,상기 주화성에 의한 흡착세포의 유속을 산출하는 것은 흡착세포의 운동성에 주화성에 대한 민감도 상수를 곱하고 위치에 따른 화학유도물질의 농도구배를 곱하는 것이고, 상기 촉각주성에 의한 흡착세포의 유속을 산출하는 것은 흡착세포의 운동성에 촉각주성에 대한 민감도 상수를 곱하고 위치에 따른 화학유도물질의 농도구배를 곱하는 것인 흡착세포 거동 모델링 방법.

제 1 항에 있어서,상기 확산에 의한 흡착세포의 유속은 흡착세포의 운동성과 흡착세포의 화학적 전위구배에 의해 산출되는 흡착세포 거동 모델링 방법.

제 2 항에 있어서,상기 흡착세포의 운동성은 위치에 따른 흡착세포의 농도와 재료상수에 의해 결정되고, 상기 위치에 따른 흡착세포의 농도는 시간과 3차원 공간에 연속적인 함수로 정의되며 해당 시간에서 해당 지점에 세포의 내부가 위치하는지 또는 세포의 외부가 위치하는지 여부를 나타내는 것으로 하는 흡착세포 거동 모델링 방법.

제 3 항에 있어서,상기 흡착세포의 운동성은 위치에 따른 흡착세포의 농도와 재료상수에 의해 결정되고, 상기 위치에 따른 흡착세포의 농도는 시간과 3차원 공간에 연속적인 함수로 정의되며 해당 시간에서 해당 지점에 세포의 내부가 위치하는지 또는 세포의 외부가 위치하는지 여부를 나타내는 것으로 하는 흡착세포 거동 모델링 방법.

제 1 항에 있어서, 상기 흡착세포의 전체 유속과 질량보존관계식을 결합하여 비선형 확산 방정식을 생성하는 과정을 더 포함하는 흡착세포 거동 모델링 방법.

제 6 항에 있어서,특성 길이(characteristic legnth)와 특성 시간(characteristic time)을 사용하여 상기 비선형 확산 방정식을 정규화하는 과정을 더 포함하는 흡착세포 거동 모델링 방법.

제 7 항에 있어서,상기 비선형 확산 방정식을 정규화하는 과정은 소정의 변수의 변화율과 세포의 운동성에 의해 결정되고,상기 소정의 변수는 위치에 따른 흡착세포의 농도, 바닥면의 존부를 나타내는 변수, 흡착세포의 표면에너지를 나타내는 칸 수(Cahn number), 소정의 영향 인자 및 초기 화학유도물질의 농도에 의하여 결정되는 흡착세포 거동 모델링 방법.

제 8 항에 있어서,상기 소정의 영향 인자는 주화성 또는 촉각주성에 대한 민감도 상수와 특성화된 화학유도물질 농도에 의해 결정되는 것인 흡착세포 거동 모델링 방법.

제 9 항에 있어서,상기 바닥면의 존부를 나타내는 변수는 해당 시간, 해당 위치에서 바닥면이 존재하는지 여부를 나타내는 것으로 하는 흡착세포 거동 모델링 방법.

제 8 항에 있어서,상기 위치에 따른 흡착세포의 농도는 시간과 3차원 공간에 연속적인 함수로 정의되며 해당 시간에서 해당 지점에 세포의 내부가 위치하는지 또는 세포의 외부가 위치하는지 여부를 나타내는 것으로 하는 흡착세포 거동 모델링 방법.

제 1 항 내지 제 11 항중 어느 한 항에 기재된 흡착세포 거동 모델링 방법을 이용하여,흡착세포의 거동을 수식으로 모델링하고, 상기 모델링된 수식에 분석하고자 하는 환경을 나타내는 파라미터를 텐서(tensor)의 형태로 대입하여 흡착세포 집단 또는 단일 흡착세포의 거동을 3차원적으로 분석하는 흡착세포 거동 분석방법.

제 12 항에 있어서,상기 3차원적으로 분석된 흡착세포 집단 또는 단일 흡착세포의 거동을 이용하여 흡착세포 집단 또는 단일 흡착세포의 형태 변화를 3차원적으로 분석하는 흡착세포 거동 분석방법.

주화성(chemotaxis) 또는 촉각주성(haptotaxis)에 의한 흡착세포의 유속을 산출하기 위한 제 1 유속 산출부;확산에 의한 흡착세포의 유속을 산출하기 위한 제 2 유속 산출부;및상기 제 1 유속 산출부에서 산출한 흡착세포의 유속과 상기 제 2 유속 산출부에서 산출한 흡착세포의 유속을 합산하는 합산부를 포함하는 흡착세포 거동 모델링 장치.

제 17 항에 있어서,상기 위치에 따른 흡착세포의 농도는 시간과 3차원 공간에 연속적인 함수로 정의되며 해당 시간에서 해당 위치에 흡착세포의 내부가 존재하는지, 흡착세포의 외부가 존재하는지 여부를 나타내는 것으로 하는 흡착세포 거동 모델링 장치.

제 18 항에 있어서,상기 위치에 따른 흡착세포의 농도는 시간과 3차원 공간에 연속적인 함수로 정의되며 해당 시간에서 해당 위치에 흡착세포의 내부가 존재하는지, 흡착세포의 외부가 존재하는지 여부를 나타내는 것으로 하는 흡착세포 거동 모델링 장치.

제 14 항에 있어서,상기 합산부에서 산출한 흡착세포의 전체 유속과 질량보존관계식을 결합하여 비선형 확산 방정식을 구하는 방정식 생성부를 더 포함하는 흡착세포 거동 모델링 장치.

제 21 항에 있어서,특성 길이(characteristic length)와 특성 시간(characteristic time)을 이용하여 상기 비선형 확산 방정식을 정규화하는 정규화부를 더 포함하는 흡착세포 거동 모델링 장치.

제 22 항에 있어서,상기 정규화부는 소정의 변수의 변화율와 흡착세포의 운동성을 이용하여 상기 비선형 확산 방정식을 정규화하는 흡착세포 거동 모델링 장치.

제 23 항에 있어서,상기 소정의 변수는 위치에 따른 흡착세포의 농도, 바닥면의 존부를 나타내는 변수, 세포의 표면에너지를 나타내는 칸 수(Cahn number), 소정의 영향 인자 및 초기 화학유도물질의 농도에 의하여 결정되는 것인 흡착세포 거동 모델링 장치.

제 24 항에 있어서,상기 칸 수는 재료상수와 특성 길이에 의해 결정되고, 상기 소정의 영향 인자는 주화성 또는 촉각주성에 대한 민감도 상수와 특성화된 화학유도물질 농도에 의해 결정되는 것인 흡착세포 거동 모델링 장치.

제 24 항에 있어서,상기 바닥면의 존부를 나타내는 변수는 시간과 3차원 공간에 연속적인 함수로 정의되며 해당 시간 및 해당 위치에서 바닥면이 존재하는지 여부를 나타내는 것으로 정의되고,상기 위치에 따른 흡착세포의 농도는 시간과 3차원 공간에 연속적인 함수로 정의되며 해당 시간 및 해당 위치에서 흡착세포가 존재하는지 여부를 나타내는 것으로 정의되는 흡착세포 거동 모델링 장치.

제 14 항 내지 제 26 항중 어느 한 항에 기재된 흡착세포 거동 모델링 장치를 이용하여,흡착세포의 거동을 수식으로 모델링하고,상기 모델링된 수식에 분석하고자 하는 환경을 나타내는 파라미터를 텐서(tensor)의 형태로 대입하여 흡착세포 집단 또는 단일 흡착세포의 거동을 3차원적으로 분석하는 흡착세포 거동 분석방법.

제 27 항에 있어서, 상기 3차원적으로 분석된 흡착세포 집단 또는 단일 흡착세포의 거동을 이용하여 흡착세포 집단 또는 단일 흡착세포의 형태변화를 3차원적으로 분석하는 흡착세포 거동 분석방법.