| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 티타늄 호일 층;상기 티타늄 호일 층의 상부 면에 형성된 300 ㎚ 내지 10 ㎛ 두께의 이산화티탄 나노튜브 층; 및상기 티타늄 호일 층의 하부 면에 형성된 Ni-Sb-SnO2 층을 포함하는 수중 오염물 처리용 양면전극. |
| 2 | 제1항에 있어서, 상기 티타늄 호일 층의 두께는 0.1 내지 5 ㎜인 수중 오염물 처리용 양면전극. |
| 3 | 삭제 |
| 4 | 제1항에 있어서, 상기 Ni-Sb-SnO2 층의 두께는 100 ㎚ 내지 10 ㎛인 수중 오염물 처리용 양면전극. |
| 5 | 제1항에 있어서, 상기 이산화티탄 나노튜브 층은 광전기 촉매로서 작용하는 수중 오염물 처리용 양면전극. |
| 6 | 제1항에 있어서, 상기 Ni-Sb-SnO2 층은 전기화학적 촉매로서 작용하는 수중 오염물 처리용 양면전극. |
| 7 | 하기 단계를 포함하는 제1항의 수중 오염물 처리용 양면전극의 제조방법:티타늄 호일을 전처리하는 단계(단계 1);상기 전처리된 티타늄 호일의 상부 면을 양극산화법으로 산화시키는 단계(단계 2);상기 산화된 티타늄 호일을 세척 및 건조시키는 단계(단계 3);상기 건조된 티타늄 호일을 열처리하는 단계(단계 4);상기 열처리된 티타늄 호일을 냉각시키는 단계(단계 5);상기 냉각된 티타늄 호일의 하부 면을 전처리하는 단계(단계 6);상기 전처리된 티타늄 호일의 하부 면을 Sn, Sb 및 Ni를 포함하는 코팅 용액으로 코팅하는 단계(단계 7);상기 코팅된 티타늄 호일을 건조시키는 단계(단계 8); 및상기 단계 8에서 건조된 티타늄 호일을 열처리하는 단계(단계 9). |
| 8 | 제7항에 있어서, 상기 단계 1)의 전처리는 티타늄 호일을 이소프로필알코올에 담그고 초음파로 세척하는 것인 수중 오염물 처리용 양면전극의 제조방법. |
| 9 | 제7항에 있어서, 상기 단계 4)의 열처리는 450 내지 550℃에서 수행하는 것인 수중 오염물 처리용 양면전극의 제조방법. |
| 10 | 제7항에 있어서, 상기 단계 6)의 전처리는 샌드페퍼로 연마한 후 증류수로 세척하는 것인 수중 오염물 처리용 양면전극의 제조방법. |
| 11 | 제7항에 있어서, 상기 단계 7)의 코팅 용액 중 Sn과 Sb와 Ni의 원자 비율은 90 내지 98 : 2 내지 8 : 0.1 내지 2인 것인 수중 오염물 처리용 양면전극의 제조방법. |
| 12 | 제7항에 있어서, 상기 단계 9)의 열처리는 400 내지 500℃에서 수행하는 것인 수중 오염물 처리용 양면전극의 제조방법. |
| 13 | 하기 단계를 포함하는 수처리 방법:제1항의 수중 오염물 처리용 양면전극을 폐수와 접촉시키는 단계(단계 1); 및상기 폐수와 접촉된 양면전극의 상부 면에 빛을 조사하고 이와 동시에 양면전극에 전력을 공급하는 단계(단계 2). |
