하기 화학식 1로 표시되는 화합물 또는 이의 약학적으로 허용되는 염:[화학식 1]상기 화학식 1에서,R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소; C1-5 알킬; 할로겐; 치환 또는 비치환된 C6-10 아릴; 치환 또는 비치환된 C6-10 아릴-C1-5 알킬; 또는 치환 또는 비치환된 C6-10 아릴-C1-5 알케닐이고, 여기서 상기 치환된 C6-10 아릴, 상기 치환된 C6-10 아릴-C1-5 알킬 및 상기 치환된 C6-10 아릴-C1-5 알케닐은 C1-3 알킬, 할로겐 및 C1-5 알콕시 중에서 선택되는 하나로 치환된 것이고,단, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물에서 하기의 화합물은 제외된다:.

제 1항에 있어서,상기 치환된 C6-10 아릴은 C1-3 알킬, 할로겐 및 C1-3알콕시 중에서 선택되는 하나로 치환된 것을 특징으로 하는, 화합물 또는 이의 약학적으로 허용되는 염.

제 2항에 있어서, 상기 치환된 C6-10 아릴은 메틸페닐, 플루오로페닐 또는 메톡시페닐인 것을 특징으로 하는, 화합물 또는 이의 약학적으로 허용되는 염.

제 1항에 있어서, 상기 치환된 C6-10 아릴-C1-5 알킬은 C1-3의 알콕시로 치환된 것을 특징으로 하는, 화합물 또는 이의 약학적으로 허용되는 염.

제 4항에 있어서, 상기 치환된 C6-10 아릴-C1-5 알킬은 메톡시벤질인 것을 특징으로 하는, 화합물 또는 이의 약학적으로 허용되는 염.

제 1항에 있어서, 상기 C6-10 아릴-C1-5 알케닐은 3-페닐-2-프로페닐인 것을 특징으로 하는, 화합물 또는 이의 약학적으로 허용되는 염.

제 1항에 있어서,상기 화합물은 하기 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나인 것을 특징으로 하는, 화합물 또는 이의 약학적으로 허용되는 염:1) 2,3-디페닐벤조퀴나졸린-4,5,10(3H)-트리온 (2,3-diphenylbenzoquinazoline-4,5,10(3H)-trione),2) 3-벤질-2-페닐벤조퀴나졸린-4,5,10(3H)-트리온 (3-benzyl-2-phenylbenzoquinazoline-4,5,10(3H)-trione),3) 3-벤질-2-(p-톨릴)벤조퀴나졸린-4-5-10(3H)-트리온 (3-benzyl-2-(p-tolyl)benzoquinazoline-4,5,10(3H)-trione),4) 3-벤질-2-(4-플루오로페닐)벤조퀴나졸린-4,5,10(3H)-트리온 (3-benzyl-2-(4-fluorophenyl)benzoquinazoline-4,5,10(3H)-trione)5) 3-벤질-2-(4-메톡시페닐)벤조퀴나졸린-4,5,10(3H)-트리온 (3-benzyl-2-(4-methoxyphenyl)benzoquinazoline-4,5,10(3H)-trione),6) 3-신나밀-2-페닐벤조퀴나졸린-4,5,10(3H)-트리온 (3-cinnamyl-2-phenylbenzoquinazoline-4,5,10(3H)-trione), 및7) 3-(4-메톡시벤질)-2-페닐벤조퀴나졸린-4,5,10(3H)-트리온 (3-(4-methoxybenzyl)-2-phenylbenzoquinazoline-4,5,10(3H)-trione).

하기 단계를 포함하는 청구항 1의 화학식 1의 화합물의 제조방법:a) 하기 화학식 2의 화합물을 아실화한 뒤 알킬아민 또는 아릴아민과 반응시켜 화학식 3의 화합물을 수득하는 단계;b) 하기 화학식 3의 화합물을 구리 존재 하에 소듐 아자이드와 반응시켜 아미노화하여 화학식 4의 화합물을 수득하는 단계; c) 하기 화학식 4의 화합물을 p-TsOHH2O의 존재 하에 알데하이드와 반응시켜 화학식 5의 화합물을 수득하는 단계; 및d) 하기 화학식 5의 화합물을 세릭 암모늄 니트레이트를 이용하여 산화하는 단계.[화학식 2][화학식 3][화학식 4][화학식 5]상기 화학식 3에서, 상기 R1은 페닐기, 벤질기, 신나밀기 또는 4-메톡시페닐기일 수 있으며, 상기 화학식 4에서, 상기 R1은 페닐기, 벤질기, 신나밀기 또는 4-메톡시페닐기일 수 있으며,상기 화학식 5에서, 상기 R1은 페닐기, 벤질기, 신나밀기 또는 4-메톡시페닐기일 수 있고, 상기 R2는 페닐기, 4-메틸페닐기, 4-플루오로페닐기 또는 4-메톡시페닐기일 수 있다.

제 8항에 있어서,e) 상기 화학식 1의 화합물의 R1이 4-메톡시벤질기일 때, BBr3를 반응시켜 4-메톡시벤질기를 제거하는 단계를 더 포함하는 제조방법.

제 1항 내지 7항 중 어느 한 항의 화합물 또는 이의 약학적으로 허용되는 염을 포함하는 항균용 조성물.

제 10항에 있어서, 상기 조성물은 엔테로코쿠스 패칼리스, 엔테로코쿠스 패시움, 스타필로코쿠스 아우레우스, 스타필로코쿠스 에피더미디스, 스트렙토코쿠스 뮤탄스, 스트렙토코쿠스 소브리누스, 푸소박테리움 뉴클레아텀 및 포피로모나스 진지발리스로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 구강균에 대한 항균활성을 갖는 것을 특징으로 하는, 항균용 조성물.