| 번호 | 청구항 |
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| 6 | 삭제 |
| 7 | 삭제 |
| 8 | 제 5항에 있어서,상기 제 1포트 및 상기 제 2포트는,상기 자유 공간 측정 기법의 경우, 안테나로 구성되는, 유전율 추정 장치. |
| 1 | 유전율 추정 방법에 있어서, 상기 유전율을 추정할 시편을 유전율 추정 장치의 대면하는 제 1 포트 및 제 2 포트 사이에 위치하는 단계; 및상기 시편의 상기 유전율을 변수로 포함하는 추정 산란계수와 측정 산란계수의 차이를 최소화하는 유전율 값을 상기 유전율로 추정하는 단계를 포함하며,상기 추정 산란계수는,자유 공간 측정 기법의 경우, 상기 시편의 투자율 및 상기 시편에 입사되는 전자파의 입사각에 기초하여 추정되고, 도파관 측정 기법의 경우, 도파관의 길이 및 상기 전자파의 파장에 기초하여 추정되되,상기 측정 산란계수는,상기 시편의 정규화된 측정 산란계수를 포함하되,상기 정규화된 측정 산란계수는,상기 자유 공간 측정 기법의 경우, 대기 산란계수를 기준으로, 이상도체 산란계수 및 상기 시편의 상기 측정 산란계수 각각에 대한 차이의 비와 상기 시편의 측정 두께 및 전파상수에 기초하여 결정되는, 유전율 추정 방법. |
| 2 | 삭제 |
| 3 | 삭제 |
| 4 | 제 1항에 있어서,상기 제 1포트 및 상기 제 2포트는,상기 자유 공간 측정 기법의 경우, 안테나로 구성되는, 유전율 추정 방법. |
| 5 | 유전율 추정 장치에 있어서,상기 유전율을 추정할 시편을 제 1 포트 및 제 2 포트 사이에 위치시키는, 안착부; 및상기 시편의 상기 유전율을 변수로 포함하는 추정 산란계수와 측정 산란계수의 차이를 최소화하는 상기 유전율 값을 상기 유전율로 추정하는 추정부를 포함하며,상기 추정 산란계수는,자유 공간 측정 기법의 경우, 상기 시편의 투자율 및 상기 시편에 입사되는 전자파의 입사각에 기초하여 추정되고, 도파관 측정 기법의 경우, 도파관의 길이 및 상기 전자파의 파장에 기초하여 추정되되,상기 측정 산란계수는,상기 시편의 정규화된 측정 산란계수를 포함하되,상기 정규화된 측정 산란계수는,상기 자유 공간 측정 기법의 경우, 대기 산란계수를 기준으로, 이상도체 산란계수 및 상기 시편의 상기 측정 산란계수 각각에 대한 차이의 비와 상기 시편의 측정 두께 및 전파상수에 기초하여 결정되는, 유전율 추정 장치. |
| 9 | 유전율 추정 방법이 컴퓨터로 판독가능한 기록 매체에서 실행가능한 컴퓨터 프로그램에 있어서, 상기 유전율 추정 방법은,상기 유전율을 추정할 시편을 제 1 포트 및 제 2 포트 사이에 위치시키는 단계; 및상기 시편의 상기 유전율을 변수로 포함하는 추정 산란계수와 측정 산란계수의 차이를 최소화하는 상기 유전율 값을 상기 유전율로 추정하는 단계를 포함하며,상기 추정 산란계수는,자유 공간 측정 기법의 경우, 상기 시편의 투자율 및 상기 시편에 입사되는 전자파의 입사각에 기초하여 추정되고, 도파관 측정 기법의 경우, 도파관의 길이 및 상기 전자파의 파장에 기초하여 추정되되,상기 측정 산란계수는,상기 시편의 정규화된 측정 산란계수를 포함하되,상기 정규화된 측정 산란계수는,상기 자유 공간 측정 기법의 경우, 대기 산란계수를 기준으로, 이상도체 산란계수 및 상기 시편의 상기 측정 산란계수 각각에 대한 차이의 비와 상기 시편의 측정 두께 및 전파상수에 기초하여 결정되는, 컴퓨터 프로그램. |
