이산화탄소 및 메탄 흡착제, 이의 제조방법
ASOPBENT FOR CARBON DIOXIDE AND METHANE, METHOD FOR MANUFACTURING OF THE SAME
특허 요약
이산화탄소 및 메탄 흡착제를 개시한다. 다공성 탄소 흡착제; 상기 탄소 흡착제 표면에 결합된 하이드록실 작용기 및 케톤 작용기를 포함하고, 상기 하이드록실 작용기 및 상기 케톤 작용기의 비율은 1 내지 5:1이다.
청구항
번호청구항
1

다공성 탄소 흡착제;상기 탄소 흡착제 표면에 결합된 하이드록실 작용기 및 케톤 작용기를 포함하고, 상기 하이드록실 작용기 및 상기 케톤 작용기의 몰비율은 1 내지 5:1인, 이산화탄소 및 메탄 흡착제.

2

제1항에 있어서,상기 이산화탄소 및 메탄 흡착제의 비표면적은 1000 내지 4200 m2/g인, 이산화탄소 및 메탄 흡착제.

3

제1항에 있어서,상기 이산화탄소 및 메탄 흡착제의 0.9 nm 이하 초미세기공 부피는 0.1 내지 0.45 cm3/g,이산화탄소 및 메탄 흡착제.

4

cPVC(chlorinated polyvinyl chloride) 및 KOH 활성화제를 용매에 혼합한 후 탄화시켜 다공성 탄소 흡착제를 제조하는 단계를 포함하고,상기 다공성 탄소 흡착제는 다공성 탄소 흡착제; 및 상기 탄소 흡착제 표면에 결합된 하이드록실 작용기 및 케톤 작용기를 포함하는, 이산화탄소 및 메탄 흡착제의 제조방법.

5

제4항에 있어서,상기 cPVC 및 KOH 활성화제의 질량비는 1:1 내지 4인, 이산화탄소 및 메탄 흡착제의 제조방법.

6

제4항에 있어서,상기 용매는 에틸렌 글라이콜(ethylene glycol) 또는 디메틸 설폭사이드(dimethyl sulfoxide)를 포함하는, 이산화탄소 및 메탄 흡착제의 제조방법.

7

제4항에 있어서, 상기 탄화는 600 내지 900 ℃의 질소 분위기에서 수행하는, 이산화탄소 및 메탄 흡착제의 제조방법.

8

제4항에 있어서, 상기 다공성 탄소 흡착제와 붕소수소화나트륨(NaBH4)와 혼합하여 상기 케톤기를 환원시키는 단계를 더 포함하는, 이산화탄소 및 메탄 흡착제의 제조방법.

9

제8항에 있어서,상기 케톤기를 환원시키는 단계는 10 내지 60분 동안 수행하는, 이산화탄소 및 메탄 흡착제의 제조방법.