티타늄계 합금을 준비하는 티타늄계 합금 준비단계; 및준비된 상기 티타늄계 합금을 제1 전해용액에 침지시키고, 플라즈마 전해 산화장치에 펄스 전류를 인가하여, 상기 티타늄계 합금의 표면에 다공성 산화 피막을 형성하는 산화 피막 형성단계;를 포함하고,상기 티타늄계 합금은 Ti-40Ta-xNb이고, 여기서, x는 3 내지 15인 것을 특징으로 하는 티타늄계 합금을 이용한 치과용 임플란트의 제조방법.

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제 1항에 있어서,상기 제1 전해용액은칼슘 이온 및 인 이온을 포함하는 것을 특징으로 하는 티타늄계 합금을 이용한 치과용 임플란트의 제조방법.

제 3항에 있어서,상기 제1 전해용액은아세트산칼슘(Calcium acetate) 및 글리세로인산 칼슘(Calcium glycerophosphate)을 포함하는 것을 특징으로 하는 티타늄계 합금을 이용한 치과용 임플란트의 제조방법.

제 1항에 있어서,상기 산화 피막 형성 단계에서, 상기 플라즈마 전해 산화장치에 인가는 되는 전압은 260~300V이고, 가용시간은 2분 내지 4분인 것을 특징으로 하는 티타늄계 합금을 이용한 치과용 임플란트의 제조방법.

제 1항에 있어서,상기 산화피막 형성 단계 이후에,산화피막이 형성된 티타늄계 합금을 에탄올 및 증류수 세척한 다음 건조시키는 건조단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 티타늄계 합금을 이용한 치과용 임플란트의 제조방법.

제 1항, 제 3항 내지 제 6항 중 어느 한 항의 티타늄계 합금을 이용한 치과용 임플란트의 제조방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트.

제 7항에 있어서,상기 치과용 임플란트의 표면에는TiO2, Ta2O5 및 Nb2O5를 포함하는 다공성 산화피막이 형성된 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트.

제 7항에 있어서,상기 치과용 임플란트의 표면에는칼슘 원소 및 인 원소가 형성된 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트.

티타늄계 합금을 준비하는 티타늄계 합금 준비단계;준비된 상기 티타늄계 합금을 제2 전해용액에 침지시키고, 플라즈마 전해 산화장치에 펄스 전류를 인가하여, 상기 티타늄계 합금의 표면에 다공성 산화 피막을 형성하는 산화 피막 형성단계; 및상기 다공성 산화 피막이 형성된 티타늄계 합금의 표면에 HA(하이드록시 아파타이트)코팅층을 형성하는 HA 코팅층 형성단계;를 포함하고,상기 티타늄계 합금은 Ti-40Ta-xNb이고, 여기서, x는 3 내지 15인 것을 특징으로 하는 티타늄계 합금을 이용한 치과용 임플란트의 제조방법.

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제 10항에 있어서,상기 제2 전해용액은인산용액(H3PO4)을 포함하는 것을 특징으로 하는 티타늄계 합금을 이용한 치과용 임플란트의 제조방법.

제 10항에 있어서,상기 산화 피막 형성 단계에서, 상기 플라즈마 전해 산화장치에 인가는 되는 전압은 260~300V이고, 가용시간은 2분 내지 4분인 것을 특징으로 하는 티타늄계 합금을 이용한 치과용 임플란트의 제조방법.

제 10항에 있어서,상기 산화피막 형성 단계 이후에,산화피막이 형성된 티타늄계 합금을 에탄올 및 증류수 세척한 다음 건조시키는 건조단계;가 수행되고, 상기 HA 코팅층 형성단계가 수행되는 것을 특징으로 하는 티타늄계 합금을 이용한 치과용 임플란트의 제조방법.

제 10항에 있어서,상기 HA 코팅층 형성단계는RF-마그네트론 스퍼터링에 의해 HA(하이드록시 아파타이트)코팅층이 형성되는 것을 특징으로 하는 티타늄계 합금을 이용한 치과용 임플란트의 제조방법.

제 10항, 제 12항 내지 제 15항 중 어느 한 항의 티타늄계 합금을 이용한 치과용 임플란트의 제조방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트.

제 16항에 있어서,상기 치과용 임플란트의 표면에는TiO2, Ta2O5 및 Nb2O5를 포함하는 다공성 산화피막이 형성된 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트.

제 16항에 있어서,상기 치과용 임플란트의 표면에는HA(하이드록시 아파타이트)입자가 형성된 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트.