| 번호 | 청구항 |
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| 12 | 제 10항에 있어서,상기 나노튜브 어레이층의 표면에는 HA 및 Zn 이온을 포함하는 HA/Zn 복합층이 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트. |
| 9 | 제 1항, 제 4항 내지 제 8항 중 어느 한 항의 티타늄계 합금을 이용한 HA 코팅형 치과용 임플란트의 제조방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트. |
| 10 | 제 9항에 있어서,상기 치과용 임플란트의 표면에는 나노튜브 어레이층이 형성된 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트. |
| 11 | 제 10항에 있어서,상기 나노튜브 어레이층의 표면에는 HA 코팅층이 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트. |
| 1 | 티타늄계 합금을 준비하는 티타늄계 합금 준비단계;준비된 티타늄계 합금을 양극산화 처리하여 나노튜브 어레이층을 형성하는 나노튜브 어레이층 형성단계;상기 나노튜브 어레이층이 형성된 상기 티타늄계 합금의 표면에 HA(하이드록시 아파타이트) 코팅층을 형성하는 HA 코팅층 형성단계;를 포함하고,상기 티타늄계 합금은 Ti-40Nb-15Hf인 것을 특징으로 하는 티타늄계 합금을 이용한 HA 코팅형 치과용 임플란트의 제조방법. |
| 2 | 삭제 |
| 3 | 삭제 |
| 4 | 제 1항에 있어서,상기 나노튜브 어레이층 형성단계에서, 상기 티타늄계 합금은 작업 전극으로 이용되고, 백금전극은 보조 전극으로 이용되며, H3PO4 및 NaF를 포함하는 전해질 용액을 이용하여 나노튜브 구조를 갖는 산화 피막층이 형성되는 것을 특징으로 하는 티타늄계 합금을 이용한 HA 코팅형 치과용 임플란트의 제조방법. |
| 5 | 제 4항에 있어서,상기 전해질 용액은 1M H3PO4 및 0.8 중량 %의 NaF를 포함하는 것을 특징으로 하는 티타늄계 합금을 이용한 HA 코팅형 치과용 임플란트의 제조방법. |
| 6 | 제 1항에 있어서,상기 HA 코팅층 형성단계는RF-마그네트론 스퍼터링에 의해 HA 코팅층이 형성되는 것을 특징으로 하는 티타늄계 합금을 이용한 HA 코팅형 치과용 임플란트의 제조방법. |
| 7 | 제 1항에 있어서,상기 HA 코팅층 형성단계는RF-마그네트론 스퍼터링과 DC-마그네트론 스퍼터링에 의해 HA 및 Zn 이온을 포함하는 HA/Zn 복합층이 형성되는 것을 특징으로 하는 티타늄계 합금을 이용한 HA 코팅형 치과용 임플란트의 제조방법. |
| 8 | 제 1항에 있어서,상기 나노튜브 어레이층 형성단계 이후에,상기 나노튜브 어레이층이 형성된 티타늄계 합금을 에탄올 및 증류수 세척한 다음 건조시키는 건조단계;가 수행되고, 상기 HA 코팅층 형성단계가 수행되는 것을 특징으로 하는 티타늄계 합금을 이용한 HA 코팅형 치과용 임플란트의 제조방법. |
