측정 대상물의 형상을 검출하는 장치에 있어서,서로 다른 파장의 광을 발생시키는 하나 이상의 광원들을 포함하는 광원부;상기 하나 이상의 광원들로부터 발생된 광 중, 제1 광을 제1 경로로 획득하고, 상기 발생된 광 중 제2 광을 제2 경로로 획득하며, 상기 획득된 제1 광 및 제2 광을 제3 경로로 출력하는 광 분배기;상기 제3 경로로 출력된 제1 광 및 제2 광을 미리 설정된 주축에 대하여 45도 편광된 직선 편광으로 변환하는 선형 편광판;상기 직선 편광으로 변환된 광들을 기준 거울로 입사되는 참조광 및 상기 측정 대상물로 입사되는 측정광으로 각각 분할하고, 상기 기준 거울로부터 반사된 참조광 및 상기 측정 대상물로부터 반사된 측정광을 출력하는 간섭계; 및상기 간섭계로부터 출력된 참조광 및 측정광을 소정의 편광 패턴에 따라 필터링하고, 상기 필터링된 참조광 및 측정광 사이의 간섭 강도를 입력 변수로 하는, 제1 광의 파장 및 상기 제2 광의 파장의 합에 따른 제1 등가 파장의 위상을 결정하며, 상기 간섭 강도를 입력 변수로 하는, 상기 제1 광의 파장 및 상기 제2 광의 파장의 차이에 따른 제2 등가 파장의 위상을 결정하고, 상기 제1 등가 파장의 위상 또는 상기 제2 등가 파장의 위상 중 적어도 하나에 기초하여 상기 측정 대상물의 형상을 검출하는 형상 검출부; 를 포함하는, 장치.

삭제

제1항에 있어서, 상기 장치는상기 하나 이상의 광원들로부터 발생된 서로 다른 파장의 광들을 평행하게 출력하는 콜리메이터 렌즈; 를 더 포함하고,상기 선형 편광판은 상기 콜리메이터 렌즈로부터 평행하게 출력된 서로 다른 파장의 광들을 상기 직선 편광으로 변환하는 것인, 장치.

제1항에 있어서, 상기 간섭계는상기 하나 이상의 광들을 투과 및 반사 시키는 광 분할부; 및상기 광 분할부로부터 투과된 하나 이상의 광들을 각각 상기 참조광 및 상기 참조광과 직교하는 상기 측정광으로 분할하는 편광 광 분할부; 를 더 포함하는 장치.

제4항에 있어서, 상기 간섭계는상기 기준 거울로부터 반사된 참조광 및 상기 측정 대상물로부터 반사된 측정광을 원편광 시키는 파장판; 및상기 파장판으로부터 출력된 원편광된 참조광 및 측정광을 결상시키는 결상 렌즈; 를 더 포함하고,상기 형상 검출부는 상기 결상 렌즈를 통하여 결상된 참조광 및 측정광을 이용하여 상기 측정 대상물의 형상을 검출하는 것인, 장치.

제1항에 있어서, 상기 형상 검출부는상기 간섭계로부터 출력된 측정광 및 참조광이 입사되는 마이크로 렌즈 어레이;상기 마이크로 렌즈 어레이를 통과한 상기 측정광 및 상기 참조광을 상기 소정의 편광 패턴에 따라 필터링하기 위한 편광 필터; 및상기 편광 패턴에 따라 필터링된 참조광 및 측정광 내 간섭무늬들의 간섭 강도를 격자 단위로 획득하는 픽셀 어레이; 를 포함하는, 장치.

제5항에 있어서, 상기 편광 광 분할부는상기 광 분할부로부터 투과된 제1광 및 상기 제2 광을 수직 편광함으로써 각각 생성된 제1 수직 편광 광 및 제2 수직 편광 광을 상기 참조광으로 하여, 상기 기준 거울에 입사시키고, 상기 광 분할부로부터 투과된 제1 광 및 상기 제2 광을 수평 편광함으로써 각각 생성된 제1 수평 편광 광 및 제2 수평 편광 광을 상기 측정광으로 하여 상기 측정 대상물로 입사시키며,상기 기준 거울로부터 반사된 제1 수직 편광 광 및 상기 제2 수직 편광 광을 상기 광 분할부로 반사시키고, 상기 측정 대상물로부터 반사된 제1 수평 편광 광 및 상기 제2 수평 편광 광을 상기 광 분할부로 투과시키는 것을 특징으로 하는, 장치.

제7항에 있어서, 상기 광 분할부는상기 기준 거울로부터 반사된 제1 수직 편광 광 및 상기 제2 수직 편광 광과, 상기 측정 대상물로부터 반사된 제1 수평 편광 광 및 상기 제2 수평 편광 광을 상기 파장판으로 반사시키는 것을 특징으로 하는, 장치.

삭제

제1항에 있어서, 상기 형상 검출부는상기 결정된 제1 등가 파장에서의 위상을 이용하여 상기 측정 대상물의 형상을 검출하고,상기 결정된 제1 등가 파장에서의 위상에 대한 2 파이 모호성이 발생하는 경우, 상기 제2 등가 파장에서의 위상을 이용하여 상기 제1 등가 파장에서의 위상을 보상하는 것을 특징으로 하는, 장치.

제6항에 있어서, 상기 편광 필터는 상기 픽셀 어레이 내 적어도 하나의 픽셀을 포함하는 단위 격자 셀에 대응되는 복수의 단위 격자 필터를 포함하고,상기 단위 격자 필터는 상기 단위 격자 필터에 대응되는 단위 격자 셀 내 픽셀 별로 서로 다른 각도의 단위 필터를 포함하는, 장치.

제1항에 있어서, 상기 광원부는 버터 플라이(Butterfly) 타입의 하나 이상의 광원들을 포함하고,상기 광 분배기는 2 by 1 형식으로 상기 제1 광이 획득된 상기 제1 경로 및 상기 제2 광이 획득된 제2 경로를 이용하여 상기 제3 경로를 형성하는 것을 특징으로 하는, 장치.

측정 대상물의 형상을 검출하는 장치가 측정 대상물의 형상을 검출하는 방법에 있어서,서로 다른 파장의 광을 발생시키는 하나 이상의 광원들로부터 광들을 획득하는 단계;상기 하나 이상의 광원들로부터 발생된 광 중, 제1 광을 제1 경로로 획득하고, 상기 발생된 광 중, 제2 광을 제2 경로로 획득하는 단계;상기 획득된 제1 광 및 제2 광을 제3 경로로 출력하는 단계;상기 제3 경로에서 출력된 제1 광 및 제2 광을 미리 설정된 주축에 대하여 45도 편광된 직선 편광으로 변환하는 단계;상기 직선 편광으로 변환된 광들을 기준 거울로 입사되는 참조광 및 상기 측정 대상물로 입사되는 측정광으로 각각 분할하는 단계;상기 기준 거울로부터 반사된 참조광 및 상기 측정 대상물로부터 반사된 측정광을 획득하는 단계;상기 기준 거울로부터 반사된 참조광 및 상기 측정 대상물로부터 반사된 측정광을 필터링하는 단계;상기 필터링된 참조광 및 측정광 사이의 간섭 강도를 입력 변수로 하는, 제1 광의 파장 및 상기 제2 광의 파장의 합에 따른 제1 등가 파장의 위상을 결정하는 단계;상기 간섭 강도를 입력 변수로 하는, 제1 광의 파장 및 상기 제2 광의 파장의 차이에 따른 제2 등가 파장의 위상을 결정하는 단계; 및상기 제1 등가 파장의 위상 또는 상기 제2 등가 파장의 위상 중 적어도 하나에 기초하여 상기 측정 대상물의 형상을 검출하는 단계; 를 포함하는, 방법.

삭제

제13항에 있어서, 상기 방법은상기 제3 경로에서 출력된 제1광 및 제2 광을 콜리메이터 렌즈를 이용하여 평행화 하는 단계; 및상기 평행화된 상기 제1 광 및 제2 광을 상기 직선 편광으로 변환하는 단계; 를 더 포함하는, 방법.

제13항에 있어서, 상기 방법은상기 직선 편광으로 변환된 제1 광 및 제2 광을 투과 및 반사 시키는 단계; 및상기 투과된 제1 광 및 제2 광을 각각 상기 참조광 및 상기 참조광과 직교하는 상기 측정광으로 분할하는 단계; 를 더 포함하는, 방법.

제16항에 있어서, 상기 방법은상기 기준 거울로부터 반사된 참조광 및 상기 측정 대상물로부터 반사된 측정광을 원편광 시키는 단계;상기 원편광된 참조광 및 측정광을 결상시키는 단계; 및상기 결상된 참조광 및 측정광을 이용하여 상기 측정 대상물의 형상을 검출하는 단계; 를 더 포함하는, 방법.

제13항에 있어서, 상기 형상을 검출하는 단계는상기 제1 광의 파장 및 상기 제2 광의 파장의 합에 기초하여 제1 등가 파장을 결정하는 단계;상기 제1 광의 파장 및 상기 제2 광의 파장의 차이에 기초하여 제2 등가 파장을 결정하는 단계; 및상기 결정된 제1 등가 파장에서의 위상 및 상기 제2 등가 파장에서의 위상 중 적어도 하나를 이용하여 상기 측정 대상물의 형상을 검출하는 단계; 를 포함하는, 방법.

제18항에 있어서, 상기 형상을 검출하는 단계는상기 결정된 제1 등가 파장에서의 위상을 이용하여 상기 측정 대상물의 형상을 검출하는 단계;상기 결정된 제1 등가 파장에서의 위상에 대한 2 파이 모호성이 발생하는 경우, 상기 제2 등가 파장에서의 위상을 이용하여 상기 제1 등가 파장에서의 위상을 보상하는 단계; 를 더 포함하는, 방법.

서로 다른 파장의 광을 발생시키는 하나 이상의 광원들로부터 광들을 획득하는 단계;상기 하나 이상의 광원들로부터 발생된 광 중, 제1 광을 제1 경로로 획득하고, 상기 발생된 광 중, 제2 광을 제2 경로로 획득하는 단계;상기 획득된 제1 광 및 제2 광을 제3 경로로 출력하는 단계;상기 제3 경로에서 출력된 제1 광 및 제2 광을 미리 설정된 주축에 대하여 45도 편광된 직선 편광으로 변환하는 단계;상기 직선 편광으로 변환된 광들을 기준 거울로 입사되는 참조광 및 측정 대상물로 입사되는 측정광으로 각각 분할하는 단계;상기 기준 거울로부터 반사된 참조광 및 상기 측정 대상물로부터 반사된 측정광을 획득하는 단계;상기 기준 거울로부터 반사된 참조광 및 상기 측정 대상물로부터 반사된 측정광을 필터링하는 단계;상기 필터링된 참조광 및 측정광 사이의 간섭 강도를 입력 변수로 하는, 제1 광의 파장 및 상기 제2 광의 파장의 합에 따른 제1 등가 파장의 위상을 결정하는 단계;상기 간섭 강도를 입력 변수로 하는, 제1 광의 파장 및 상기 제2 광의 파장의 차이에 따른 제2 등가 파장의 위상을 결정하는 단계; 및상기 제1 등가 파장의 위상 또는 상기 제2 등가 파장의 위상 중 적어도 하나에 기초하여 상기 측정 대상물의 형상을 검출하는 단계; 를 포함하는, 방법을 컴퓨터에서 실행시키기 위한 프로그램을 기록한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록 매체.