| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 그래핀옥사이드를 제조하는 단계;상기 그래핀옥사이드를 에탄올/물/염산 10:10:1의 부피비로 혼합된 용액에 혼합하는 단계; 테트라에틸올소실리케이트(Tetraethyl orthosilicate, TEOS)를 포함하는 실리콘계 단위체, TiO2, 지르코니아 중에서 선택되는 1종 이상인 졸-겔 재료를 첨가하여 졸-겔법으로 그래핀옥사이드가 도입된 다공성 졸-겔 필름을 제조하는 단계; 및 상기 그래핀옥사이드가 도입된 다공성 졸-겔 필름의 초음파 처리하여 표면의 그래핀옥사이드를 제거시키는 단계; 를 포함하는 대사 지문용 재료의 제조방법 |
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| 4 | 제1항에 있어서,상기 초음파 처리는 물을 이용하여 5분~60분간 수행되는 것인 대사 지문용 재료의 제조방법. |