| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 기판 상에 금속유기구조체(Metal-Organic Frameworks, MOFs)를 포함하는 금속유기구조체 층을 형성하는 단계; 및상기 금속유기구조체 층 상에 레이저를 조사하여 가스 감지층을 형성하는 단계;를 포함하고,상기 가스 감지층을 형성하는 단계에서 상기 금속유기구조체 층은 상기 레이저에 의해 금속유기구조체-파생물(MOFs-derivatives)로 변환되며,상기 금속유기구조체-파생물은 금속, 금속 산화물 및 탄소 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 센서의 제조 방법. |
| 2 | 제1항에 있어서, 상기 금속유기구조체-파생물은 금속, 금속 산화물 및 탄소 중 적어도 둘 이상을 포함하는 이종 복합체(hetero composite)를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 센서의 제조 방법. |
| 3 | 제1항에 있어서, 상기 금속유기구조체-파생물은 상기 금속유기구조체에 의해 물리적 물성, 화학적 물성 및 가스 감지 물성 중 적어도 어느 하나가 조절되고,상기 물리적 물성은 모폴로지(morphology) 및 결정성(crystallinity) 중 적어도 어느 하나를 포함하며, 상기 화학적 물성은 화학 조성(chemical composition), 결합 에너지(binding energy) 및 결함(defects) 중 적어도 어느 하나를 포함하고,상기 가스 감지 물성은 가스 선택도(gas selectivity), 가스 감도(gas sensitivity), 직선성(linearity), 응답-회복 시간(response-recovery time), 내구성(durability), 저항성(resistance) 및 신뢰성(reliability) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 센서의 제조 방법. |
| 4 | 제3항에 있어서, 상기 금속유기구조체는 Cu3HHTP2, Cu3(HITP)2, Ni3(HHTP)2, Ni3(HITP)2, ZIF-L, ZIF-8, MOF-5, HKUST-1 및 MIL-101 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 센서의 제조 방법. |
| 5 | 제1항에 있어서, 상기 금속유기구조체-파생물은 상기 레이저를 조사하기 위한 공정 파라미터에 의해 물리적 물성, 화학적 물성 및 가스 감지 물성 중 적어도 어느 하나가 조절되고,공정 파라미터는 레이저 펄스 주기, 레이저 펄스 폭, 레이저 파장, 레이저 파워, 레이저 빔 크기, 레이저 에너지 밀도, 레이저 스캔 방법, 레이저 조사 횟수, 레이저 조사 속도 및 레이저 빔 형상 중 적어도 어느 하나를 포함하며,상기 물리적 물성은 모폴로지(morphology) 및 결정성(crystallinity) 중 적어도 어느 하나를 포함하고, 상기 화학적 물성은 화학 조성(chemical composition), 결합 에너지(binding energy) 및 결함(defects) 중 적어도 어느 하나를 포함하며,상기 가스 감지 물성은 가스 선택도(gas selectivity), 가스 감도(gas sensitivity), 직선성(linearity), 응답-회복 시간(response-recovery time), 내구성(durability), 저항성(resistance) 및 신뢰성(reliability) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 센서의 제조 방법. |
| 6 | 제5항에 있어서, 상기 레이저는 연속파 레이저(continuous-wave laser) 혹은 펄스 레이저(pulsed laser) 인 것을 특징으로 하는 가스센서의 제조 방법. |
| 7 | 제5항에 있어서, 상기 레이저 파장은 355 nm 내지 1064 nm인 것을 특징으로 하는 가스 센서의 제조 방법. |
| 8 | 제5항에 있어서, 상기 레이저 파워(laser power)는 0.05 W 내지 2W 인 것을 특징으로 하는 가스 센서의 제조 방법. |
| 9 | 제5항에 있어서, 상기 레이저 스캔 방법은 라인 스캔, 포인트 스캔 및 래스터 스캔 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 가스 센서의 제조 방법. |
| 10 | 제5항에 있어서, 상기 레이저 조사 횟수는 1회 내지 3회인 것을 특징으로 하는 가스 센서의 제조 방법. |
| 11 | 제5항에 있어서, 상기 레이저 조사 속도는 0.01 mm/s 내지 100 m/s인 것을 특징으로 하는 가스 센서의 제조 방법. |
| 12 | 제5항에 있어서, 상기 레이저 빔 형상은 가우시안, 원형(circular), 플랫 탑 라인(flat-top line), 플랫 탑 원형(flat-top circular) 및 플랫 탑 스퀘어(flat-top square) 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 센서의 제조 방법. |
| 13 | 제5항에 있어서, 상기 레이저 빔 크기는 1 ㎛ 내지 200 ㎛인 것을 특징으로 하는 가스 센서의 제조 방법. |
| 14 | 제5항에 있어서, 레이저 에너지 밀도는 0.1 J/cm2 내지 1E+6 J/cm2인 것을 특징으로 하는 가스 센서의 제조 방법. |
| 15 | 제1항에 있어서, 상기 가스 감지층을 형성하는 단계는,상기 금속유기구조체 층 상에 선택적으로 레이저를 조사하여 가스 감지 패턴을 형성하는 단계; 및상기 레이저가 조사되지 않은 금속유기구조체 층을 제거하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 센서의 제조 방법. |
| 16 | 제1항에 있어서, 상기 기판은 글래스, 사파이어, 쿼츠, PET(Polyethylene Terephthalate), PDMS(Polydimethylsiloxane), PU(Polyurethane), PEN(Polyethylene naphthalate), PEEK(Polyetheretherketon), PI(polyimide), PMMA(poly(methylmethacrylate)), PVC(Polyvinyl Chloride), PAN(Polyacrylonitrile), PS(polystyrene) 및 PE(polyethylene) 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 센서의 제조 방법. |
| 17 | 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 따른 가스 센서의 제조 방법에 따라 제조되고,기판 상에 형성되는 가스 감지층을 포함하며,상기 가스 감지층이 금속유기구조체-파생물(MOFs-derivatives)을 포함하고,상기 금속유기구조체-파생물은 금속, 금속 산화물 및 탄소 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 센서. |
| 18 | 제17항에 있어서, 상기 가스 감지층은 가스 감지 패턴을 포함하고, 상기 가스 감지 패턴은 라인, 점, 사각형, 삼각형 및 어레이 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 가스 센서. |
| 19 | 제17항에 있어서, 상기 가스 센서는 저항변화법(chemiresistive), 정전용량법(capacitive), QCM(Quartz crystal microbalance), CM(crystal microbalance), FET(field-effect transistor), 다이오드, KP(Kelvin probe) 및 광학적 특성변화법(optical gas sensor) 중 적어도 어느 하나의 방법으로 가스를 검출하는 것을 특징으로 하는 가스 센서. |