고압 장치에 대한 나노입자 주입 장치로서,내부에 유체가 수용되는 챔버, 상기 유체 내에 서로 간격을 두고 마주하게 배치되는 한 쌍의 전극 및 상기 한 쌍의 전극에 전원을 공급하는 전원부를 포함하는 나노입자 생성부;상기 챔버로부터 배출되는 유체를 저장하는 유체 저장부;상기 유체 저장부에 압력을 가하여 상기 유체 저장부에 저장된 유체를 상기 고압 장치로 분사시키는 부스터부; 및상기 나노입자 생성부 및 상기 부스터부를 제어하는 제어부를 포함하고,상기 제어부는 상기 전원부의 작동을 통해 상기 한 쌍의 전극 사이에 플라즈마를 발생시켜 유체 플라즈마 공정을 통해 상기 유체 내에 나노입자를 직접적으로 생성하는 것인, 나노입자 주입 장치.

제1항에 있어서,상기 챔버의 일측에 연결되는 로드 락 챔버를 더 포함하고,상기 로드 락 챔버가 개방되면, 상기 챔버로부터 유체가 배출되어 상기 로드 락 챔버를 통해 상기 유체 저장부로 이동되는 것인, 나노입자 주입 장치.

제1항에 있어서,상기 챔버와 상기 유체 저장부를 연결하는 유체이동라인이 상기 챔버의 하면에 연결되고,상기 유체 저장부는 상기 챔버보다 하측에 배치되는 것인, 나노입자 주입 장치.

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제1항에 있어서,상기 나노입자는 절대값 20 mV 이상의 분산안정도를 가지도록 형성되는 것인, 나노입자 주입 장치.

제1항에 있어서,상기 챔버와 상기 유체 저장부를 연결하고, 제1 밸브가 설치되는 유체이동라인;상기 부스터부와 상기 유체 저장부를 연결하고, 제2 밸브가 설치되는 압력작용라인; 및상기 유체 저장부와 상기 고압 장치를 연결하고, 제3 밸브가 설치되는 유체분사라인을 더 포함하는, 나노입자 주입 장치.

제6항에 있어서,상기 제어부는,상기 나노입자 생성부에서의 나노입자의 생성이 완료되면, 상기 나노입자를 함유한 유체가 상기 챔버로부터 상기 유체 저장부로 이동되도록 상기 제1 밸브를 개방하고, 상기 제2 밸브 및 상기 제3 밸브를 폐쇄하며,상기 고압 장치로의 유체 분사를 위해 상기 부스터부가 작동되기 전에, 상기 나노입자를 함유한 유체가 상기 챔버로 역류하는 것을 방지하도록 상기 제1 밸브를 폐쇄하고, 상기 제2 밸브 및 상기 제3 밸브를 개방하는 것인, 나노입자 주입 장치.

제1항에 있어서,상기 제어부는,상기 유체 저장부의 유체가 상기 고압 장치로 분사되는 압력이 상기 고압 장치 내의 압력보다 커지도록 상기 부스터부를 제어하는 것인, 나노입자 주입 장치.

제1항에 있어서,상기 한 쌍의 전극은 Zn-Zn 전극, Pt-Pt 전극, Pd-Pd 전극, 또는 Pt-Pd 전극인 것인, 나노입자 주입 장치.

제1항에 있어서,상기 고압 장치는 원자로인 것인, 나노입자 주입 장치.

제1항에 따른 나노입자 주입 장치를 이용한 나노입자 주입 방법으로서,(a) 상기 나노입자 생성부에서 유체 플라즈마 공정에 의해 나노입자를 생성하여, 나노입자를 함유한 유체를 준비하는 단계;(b) 상기 나노입자를 함유한 유체를 유체 저장부로 이동시켜 저장하는 단계; 및(c) 상기 부스터부에 의해 상기 유체 저장부에 압력을 가하여 상기 유체 저장부에 저장된 유체를 상기 고압 장치로 분사시키는 단계를 포함하는, 나노입자 주입 방법.