금속박막층의 응집을 기반으로 한 전자소자의 전사방법
METHOD OF TRANSFERRING ELECTRONIC DEVICE BASED ON AGGREGATION OF METAL THIN FILM LAYER
특허 요약
본 발명의 금속박막층의 응집을 기반으로 한 전자소자의 전사방법은 전자소자 상에 금속박막층을 형성하는 단계, 금속박막층이 형성된 전자소자와 접착층을 이용하여 투명 기판을 부착하는 단계, 투명 기판을 향하여 레이저를 조사하는 단계 및, 금속박막층이 나노파티클을 형성하여 전자소자를 분리하는 단계를 포함한다. 이에 의해, 본 발명은 투명 기판에 레이저를 조사하여 금속박막층이 나노파티클을 형성함으로써 전사할 수 있는 전자소자의 종류에 따른 제약을 받지 않은 상태에서 용이하게 대면적 전사 및 선택적 전사를 가능한 효과를 발휘한다.
청구항
번호청구항
1

전자소자 상에 금속박막층을 형성하는 단계;상기 금속박막층이 형성된 전자소자와 접착층을 이용하여 투명 기판을 부착하는 단계;상기 투명 기판을 향하여 레이저를 조사하는 단계; 및상기 금속박막층이 나노파티클을 형성하여 상기 전자소자를 분리하는 단계;를 포함하고,상기 금속박막층은, 금(Au), 니켈(Ni), 구리(Cu), 철(Fe), 티타늄(Ti), 마그네슘(Mg) 및 니켈 초합금(Ni supper alloy) 중 선택된 어느 하나를 포함하는, 금속박막층의 응집을 기반으로 한 전자소자의 전사방법.

2

제1항에 있어서,상기 금속박막층이 나노파티클을 형성하여 상기 전자소자를 분리하는 단계는,조사된 레이저와의 반응에 의해 상기 금속박막층이 융해와 응고되면서 상기 나노파티클을 형성하는 것을 특징으로 하는 금속박막층의 응집을 기반으로 한 전자소자의 전사방법.

3

제2항에 있어서,상기 금속박막층은,일방향으로 돌출된 돌기 형상으로 상기 나노파티클을 형성하며, 상기 전자소자와의 접촉면적이 감소되는 것을 특징으로 하는 전 금속박막층의 응집을 기반으로 한 전자소자의 전사방법.

4

제2항에 있어서,상기 금속박막층은,일방향으로 돌출된 돌기 형상으로 상기 나노파티클을 형성하며, 상기 투명기판과의 접촉면적이 감소되는 것을 특징으로 하는 금속박막층의 응집을 기반으로 한 전자소자의 전사방법.

5

제4항에 있어서,상기 금속박막층이 나노파티클을 형성하여 상기 전자소자를 분리하는 단계; 이후에,상기 분리된 전자소자에서 상기 나노파티클을 제거하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 금속박막층의 응집을 기반으로 한 전자소자의 전사방법.

6

제1항에 있어서,상기 접착층은, 에폭시 수지를 포함하는 것을 특징으로 하는 금속박막층의 응집을 기반으로 한 전자소자의 전사방법.

7

제1항에 있어서,상기 분리된 전자소자를 타겟 기판으로 전사하는 단계;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 금속박막층의 응집을 기반으로 한 전자소자의 전사방법.

8

제1항에 있어서,상기 전자소자는 마이크로 LED, 박막 트랜지스터, 배터리 및 메모리 중 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 금속박막층의 응집을 기반으로 한 전자소자의 전사방법.

9

삭제