| 번호 | 청구항 |
|---|---|
| 8 | 제1항에 있어서, 상기 전도성 물질은 은나노와이어, 구리나노와이어 및 금나노와이어로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법. |
| 9 | 제1항에 있어서, 상기 제2코팅 단계는,500 내지 900 rpm 및 30 내지 50초 동안 수행되는 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법. |
| 1 | 다음의 단계를 포함하는 전도성 폴리머 기판의 제조 방법:표면에 피치(Pitch) 간 간격이 일정한 나노 패턴 층을 포함한 제1몰드를 준비하는 제1준비 단계;제1폴리머 재료에 상기 나노 패턴과 상응하는 나노 패턴이 형성되도록, 제1폴리머 재료에 제1몰드를 접촉시킨 후 떼어내고, 제1폴리머 재료를 경화시킴으로써 나노 패턴을 전사받은 제2몰드를 준비하는 제2준비 단계;제2폴리머 재료에 제2몰드의 나노 패턴과 상응하는 나노 패턴이 형성되도록, 제2폴리머 재료에 제2몰드를 접촉시킨 후 떼어내고, 제2폴리머 재료를 경화시킴으로써 나노 패턴을 전사받은 폴리머 기판을 준비하는 제3준비 단계;일측에 나노 패턴 층을 포함하는 폴리머 기판에 전도성 물질을 스핀 코팅하는 제1코팅 단계;전도성 물질이 제1폴리머 재료로 매립되도록, 제1폴리머 재료를 폴리머 기판의 전도성 물질이 스핀 코팅된 일측에 스핀 코팅하는 제2코팅 단계; 및폴리머 기판을 제거하는 제거 단계. |
| 2 | 제1항에 있어서, 상기 나노 패턴의 형상은 피치(pitch)와 홈(groove)이 교번 배열되는 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법. |
| 3 | 제1항에 있어서, 상기 피치 간 간격은 400 내지 1,200 nm인 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법. |
| 4 | 제1항에 있어서, 상기 제1폴리머 재료는 PDMS(polydimethylsiloxane)계 고분자, PMMA(polymethyl methacrylate), PUA(polyurethane acrylate), PS(polystyrene), PC(polycarbonate), PVA(polyvinyl alcohol), COP(cyclicolefin copolymer), PET(polyethylene terephthalate), PVB(polyvinyl butadiene) 및 이들의 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종인 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법. |
| 5 | 제1항에 있어서, 상기 제2폴리머 재료는 PDMS(polydimethylsiloxane)계 고분자, PMMA(polymethyl methacrylate), PUA(polyurethane acrylate), PS(polystyrene), PC(polycarbonate), PVA(polyvinyl alcohol), COP(cyclicolefin copolymer), PET(polyethylene terephthalate), PVB(polyvinyl butadiene) 및 이들의 공중합체로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종인 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법. |
| 6 | 제1항에 있어서, 상기 제1코팅 단계는,400 내지 600 rpm 및 5 내지 15초 동안 1차 스핀 코팅 후, 2,500 내지 3,500 rpm 및 20 내지 40초 동안 2차 스핀 코팅됨으로써 수행되는 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법. |
| 7 | 제1항에 있어서, 상기 제1코팅 단계는 적어도 2회 이상 수행되는 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법. |
| 10 | 제1항에 있어서, 상기 제거 단계는 전도성 물질 및 제1폴리머 재료가 순차 적층된 폴리머 기판을 탈이온수에 침지시킴으로써 수행되는 것인, 전도성 폴리머 기판의 제조 방법. |
| 11 | 일측에 형성된 나노 패턴을 포함하며, 전도성 물질이 상기 나노 패턴의 층에 매립된 세포 배양용 전도성 폴리머 기판으로서,상기 전도성 물질은 상기 나노 패턴의 층의 표면에 일부분이 노출되어 있는 것인, 세포 배양용 전도성 폴리머 기판. |
| 12 | 제11항에 있어서, 상기 전도성 물질은 은나노와이어, 구리나노와이어 및 금나노와이어로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것인, 전도성 폴리머 기판. |
| 13 | 제11항에 있어서, 상기 나노 패턴의 형상은 나노 크기의 피치(pitch)와 홈(groove)이 교번 배열되는 것인, 전도성 폴리머 기판. |
| 14 | 제13항에 있어서, 상기 피치 간 간격은 400 내지 1,200 nm인 것인, 전도성 폴리머 기판. |
