광촉매 코팅막과, 저온 플라즈마를 이용한 광촉매 코팅막 표면처리 방법
photocatalyst coating layer and method of making the same with non-thermal plasma
특허 요약
본 발명에 다르면, 광촉매 코팅막은 광촉매물질로 이루어지며 가시광에 의해 활성화 되도록 저온 플라즈마 처리된 것으로, 이의 처리 방법은 플라즈마 생성기의 챔버에 광촉매 코팅막이 형성된 기체를 장착하는 제 1단계와, 상기 플라즈마 생성기의 챔버 내에 플라즈마화 기체를 주입하는 제2단계와,상기 플라즈마 생성기를 통하여 생성되는 저온 플라즈마를 이용하여 상기 광촉매 코팅막을 표면처리하여 가시광에서 반응되도록 하는 제3단계를 포함한다. 광촉매, 저온 플라즈마, 개질
청구항
| 번호 | 청구항 |
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| 6 | 제 4항에 있어서, 상기 플라즈마화 기체는 질소와 아르곤 가스, 수소와 질소가스, 산소가스 중의 하나인 것을 특징으로 하는 광촉매 코팅막의 표면처리 방법. |
| 4 | 플라즈마 생성기의 챔버에 광촉매 코팅막이 형성된 기체를 장착하는 제 1단계와, 상기 플라즈마 생성기의 챔버 내에 플라즈마화 기체를 주입하는 제2단계와, 상기 플라즈마 생성기를 통하여 생성되는 저온 플라즈마를 이용하여 상기 광촉매 코팅막을 표면처리하여 가시광에서 반응되도록 하는 제3단계를 구비하여 된 것을 된 것을 특징으로 하는 광촉매 코팅막의 표면 처리 방법. |
| 5 | 제 4항에 있어서, 상기 플라즈마화 기체는 수소와 아르곤가스인 것을 특징으로 하는 광촉매 코팅막의 표면처리 방법. |
| 1 | 광촉매물질로 이루어지며 가시광에 의해 활성화 되도록 저온 플라즈마 처리된 것을 특징으로 하는 광촉매 코팅막. |
| 2 | 제 1항에 있어서, 상기 광촉매 물질이 산화티타늄을 이루어진 것을 특징으로 하는 광촉매 코팅막. |
| 3 | 제 2항에 있어서, 상기 산화 티타늄이 아나타제(anatase)형 또는 루틸(rutile)형인 것을 특징으로 하는 광촉매 코팅막. |
