하기 화학식 2로 표시되는 화합물:[화학식 2][화학식 3][화학식 4]여기서, n 및 p는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 0 내지 3의 정수이며, m은 0 내지 5의 정수이며,q 및 r은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 0 내지 4의 정수이며,X1 및 X2는 N이며,X3은 N(R12) 또는 C(R13)(R14)이며,R1 및 R3는 상기 화학식 3 또는 4로 표시되는 화합물이며,R5 및 R6은 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 24의 알키닐기 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알콕시기이며, 인접한 치환기와 서로 결합하여 고리를 형성할 수 있고,R2, R4, R7, R8 및 R12 내지 R14는 서로 동일하거나 상이하며, 각각 독립적으로 수소, 시아노기, 트리플루오로메틸기, 니트로기, 할로겐기, 히드록시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 4의 알킬티오기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아르알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 60의 헤테로아릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7 내지 30의 아르알킬아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 24의 헤테로 아릴아미노기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬실릴기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴실릴기 및 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되며, 인접한 치환기와 서로 결합하여 고리를 형성할 수 있고, 상기 R2, R4, R5, R6, R7, R8 및 R12 내지 R14가 치환되는 경우, 수소, 시아노기, 트리플루오로메틸기, 니트로기, 할로겐기, 히드록시기, 카복실기, 탄소수 1 내지 10의 알콕시기, 탄소수 1 내지 4의 알킬티오기, 탄소수 1 내지 30의 알킬기, 탄소수 3 내지 20의 시클로알킬기, 탄소수 2 내지 30의 알케닐기, 탄소수 2 내지 24의 알키닐기, 탄소수 7 내지 30의 아르알킬기, 탄소수 6 내지 30의 아릴기, 탄소수 2 내지 60의 헤테로아릴기, 탄소수 6 내지 30의 헤테로아릴알킬기, 탄소수 1 내지 30의 알콕시기, 탄소수 1 내지 30의 알킬아미노기, 탄소수 6 내지 30의 아릴아미노기, 탄소수 7 내지 30의 아르알킬아미노기, 탄소수 2 내지 24의 헤테로 아릴아미노기, 탄소수 1 내지 30의 알킬실릴기, 탄소수 6 내지 30의 아릴실릴기 및 탄소수 6 내지 30의 아릴옥시기로 이루어진 군으로부터 선택되는 치환기로 치환되며, 복수 개의 치환기로 치환되는 경우 이들은 서로 동일하거나 상이하다.

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제1항에 있어서,상기 R4는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 알킬기인화합물.

제1항 또는 제4항 중 어느 한 항에 따른 화합물을 포함하는고가시성 염료 조성물.

제5항에 있어서,상기 염료 조성물은 자외선에 대한 내광성을 갖는고가시성 염료 조성물.

제5항에 따른 고가시성 염료 조성물을 포함하는형광 제품.

제7항에 있어서,상기 형광 제품은 보호 장비 또는 경고판인형광 제품.

제5항에 따른 고가시성 염료 조성물을 포함하는생물학적 이미징 및 형광 현미경 검사용 조성물.