고밀도 엣지 노출 레이어를 갖는 WxMo1-xS2 나노시트의 제조방법
Preparation Method for WxMo1-xS2 Nanosheets with High-Density Edge Exposed Layer
특허 요약
본 발명은 수소 발생 반응용 촉매로서 활성이 높은 고밀도 엣지 노출 레이어를 갖는 W x Mo 1-x S 2 나노시트의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 W x Mo 1-x S 2 (0003c#x003c#1) 전구체 용액의 수열반응에 의한 W x Mo 1-x S 2 나노시트의 제조방법에 있어서, 전구체 용액의 제조 후 수열반응 전에 1~15일간 에이징하는 단계를 추가로 포함하여 엣지 노출 레이어의 밀도를 증가시키는 것을 특징으로 하는 W x Mo 1-x S 2 나노시트의 제조방법에 관한 것이다.
청구항
번호청구항
1

몰리브덴산염, 텅스텐산염 및 티오우레아 또는 티오아세트 아마이드 수용액으로 이루어진 WxMo1-xS2 (0003c#x003c#1) 전구체 용액의 수열반응에 의한 WxMo1-xS2 나노시트의 제조방법에 있어서,전구체 용액의 제조 후 수열반응 전에 1~15일간 에이징하는 단계를 추가로 포함하여 엣지 노출 레이어의 밀도를 증가시키는 것을 특징으로 하는 WxMo1-xS2 나노시트의 제조방법.

2

청구항 1에 있어서,에이징 후 전구체 용액의 pH는 6.0~7.5인 것을 특징으로 하는 WxMo1-xS2 나노시트의 제조방법.

3

청구항 1에 있어서,에이징 후 전구체 용액의 pH를 6.3±0.2로 조절하는 단계를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 WxMo1-xS2 나노시트의 제조방법.

4

청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,제조된 WxMo1-xS2의 라만 스펙트럼에서 A1g 피크에 대한 E12g 피크의 면적 비율이 1.0 이상인 것을 특징으로 하는 WxMo1-xS2 나노시트의 제조방법.

5

청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,제조된 WxMo1-xS2에서 1T 상의 비율이 50% 이상인 것을 특징으로 하는 WxMo1-xS2 나노시트의 제조방법.

6

청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,제조된 WxMo1-xS2의 S 2p에 대한 XPS 스펙트럼에서 1T 상의 총 피크의 면적 중 164.5 eV의 종단 황그룹의 피크의 면적이 50% 이상인 것을 특징으로 하는 WxMo1-xS2 나노시트의 제조방법.

7

1T 상의 비율이 50% 이상이고,라만 스펙트럼에서 A1g 피크에 대한 E12g 피크의 면적 비율 E12g/A1g이 1.0 이상인 것을 특징으로 하는 WxMo1-xS2 나노시트.

8

청구항 7의 WxMo1-xS2 나노시트를 포함하는 수소발생반응용 촉매.

9

청구항 8에 있어서, 상기 WxMo1-xS2가 탄소 지지체에 담지되어 있는 것을 특징으로 하는 수소발생반응용 촉매.