| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 실리콘을 포함하고, 상부면에 요철 형상이 반복되는 기판;상기 기판 상에 형성된 절연층;상기 절연층 상에 형성된 확산장벽층; 및상기 확산장벽층 상에 형성된 도전성 패드;를 포함하는, 절연층 누설전류 평가장치. |
| 2 | 제1항에 있어서,상기 요철 형상이 반복되는 기판은 가리비꼴(scalloped) 형상을 가지는 요철 형상이 반복되는 기판을 포함하는, 절연층 누설전류 평가장치. |
| 3 | 실리콘을 포함하고, 상부면에 요철 형상이 반복되는 기판으로 이루어진 구조체를 형성하는 단계;상기 구조체 상에 절연층을 형성하는 단계;상기 절연층 상에 확산장벽층을 형성하는 단계; 및상기 확산장벽층 상에 도전성 패드를 형성하는 단계;를 포함하는, 절연층 누설전류 평가장치를 제조하는 방법. |
| 4 | 제3항에 있어서,상기 구조체를 형성하는 단계는, 상부면이 평탄한 실리콘 기판을 제공하는 단계;상기 실리콘 기판 상에 복수의 귀금속(noble metal) 패턴들을 형성하는 단계; 및상기 실리콘 기판 중 상기 귀금속 패턴들과 접하는 부분을 선택적으로 식각하는 단계; 를 포함하는, 절연층 누설전류 평가장치를 제조하는 방법. |
| 5 | 제4항에 있어서,상기 복수의 귀금속(noble metal) 패턴들은 나란하게 인접하여 형성된 복수의 귀금속 나노섬유(nanofiber) 패턴들을 포함하는, 절연층 누설전류 평가장치를 제조하는 방법. |
| 6 | 제4항에 있어서,상기 귀금속 패턴은 은(Ag), 금(Au), 백금(Pt), 팔라듐(Pd), 루테늄(Ru) 및 이들의 임의의 합금으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나를 포함하는, 절연층 누설전류 평가장치를 제조하는 방법. |
| 7 | 제4항에 있어서,상기 선택적으로 식각하는 단계는 불산(HF)을 포함하는 식각용액을 사용하여 상기 실리콘 기판을 식각하는 단계를 포함하는, 절연층 누설전류 평가장치를 제조하는 방법. |
| 8 | 제7항에 있어서,상기 불산을 포함하는 식각용액은 과산화수소수(H2O2)를 더 포함하는, 절연층 누설전류 평가장치를 제조하는 방법. |
| 9 | 제7항에 있어서,상기 불산을 포함하는 식각용액은 질산(HNO3)을 더 포함하는, 절연층 누설전류 평가장치를 제조하는 방법. |
| 10 | 제3항에 있어서,상기 요철 형상이 반복되는 기판은 가리비꼴(scalloped) 형상이 반복되는 기판을 포함하는, 절연층 누설전류 평가장치를 제조하는 방법. |
