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번호	청구항
18	제 16 항에 있어서, 상기 위상 분포의 최적화는,상기 복수의 파장 및 복수의 편광 상태의 조건을 통합 반영한 단일 최적화 과정을 통해 보정되는 것인, 메타표면.
19	제 16 항에 있어서,상기 메타표면의 메타원자가 동일한 주기의 격자 배열 형태로 배치되도록 구성되는, 메타표면.
1	복수의 파장 및 복수의 편광 상태에 따라 상이한 복수 채널의 출력 홀로그램 이미지를 구현하기 위한 메타표면 홀로그램 설계 방법에 있어서,(a) 상기 복수 채널의 출력 홀로그램 이미지에 대해, 목표 홀로그램 이미지와의 정합도 향상, 비관심 영역의 광 확산 억제, 및 복수 채널 간 간섭 최소화를 위한 복수의 손실 조건들을 반영하여 총 손실 함수를 정의하고;(b) 상기 총 손실 함수의 기울기를 계산하고, 상기 총 손실 함수의 기울기에 기초하여 상기 총 손실 함수가 최소가 되도록 메타원자의 위상 지연 제어를 위한 단일 위상 맵의 위상 분포를 반복적으로 보정하여 최적화하고;(c) 상기 최적화된 단일 위상 맵을 복수의 파장 및 편광 상태에 동일하게 적용함으로써;상기 복수 채널의 출력 홀로그램 이미지가 단일의 메타표면을 통해 모두 구현되도록 설계하는 것을 특징으로 하는 메타표면 홀로그램 설계 방법.
2	제 1 항에 있어서, 상기 총 손실 함수는,상기 목표 홀로그램 이미지와 상기 출력 홀로그램 이미지 사이의 정합도를 높이기 위한 정확도 손실;상기 출력 홀로그램 이미지의 비관심 영역에서의 광 확산을 억제하기 위한 배경 억제 손실;상기 복수 채널 사이의 상호 간섭을 줄이기 위한 채널 간 분리 손실;을 포함하는,메타표면 홀로그램 설계 방법.
3	제 1 항에 있어서, 상기 위상 분포의 최적화는,상기 복수의 파장 및 복수의 편광 상태의 조건을 통합 반영한 단일 최적화 과정을 통해 보정되는 것인, 메타표면 홀로그램 설계 방법.
4	제 1 항에 있어서,상기 총 손실 함수의 기울기가 자동 미분 기반 역설계 프레임워크를 통해 역전파 방식으로 계산되는, 메타표면 홀로그램 설계 방법.
5	제 1 항에 있어서,상기 출력 홀로그램 이미지가 레일리-좀머펠트 회절 모델(Rayleigh-Sommerfeld diffraction model)에 기반하여 계산되는, 메타표면 홀로그램 설계 방법.
6	제 1 항에 있어서,상기 복수의 파장은 상기 복수 채널의 채널 간 상호 간섭을 줄이기 위해 일정 간격을 두어 설정되는, 메타표면 홀로그램 설계 방법.
7	제 1 항에 있어서,상기 복수의 편광 상태가 좌원편광(LCP) 및 우원편광(RCP)을 포함하는, 메타표면 홀로그램 설계 방법.
8	제 1 항에 있어서,상기 복수 채널의 출력 홀로그램 이미지가 동일 초점면에 공간적으로 분리되어 투사되는, 메타표면 홀로그램 설계 방법.
9	제 1 항에 있어서,상기 메타표면의 메타원자가 단일 형상으로 구성되는, 메타표면 홀로그램 설계 방법.
10	제 1 항에 있어서,상기 메타표면의 메타원자가 동일한 주기의 격자 배열 형태로 배치되는, 메타표면 홀로그램 설계 방법.
11	복수의 파장 및 복수의 편광 상태에 따라 상이한 복수 채널의 출력 홀로그램 이미지를 구현하기 위한 메타표면 제조 방법에 있어서,(a) 상기 복수 채널의 출력 홀로그램 이미지에 대해, 목표 홀로그램 이미지와의 정합도 향상, 비관심 영역의 광 확산 억제, 및 복수 채널 간 간섭 최소화를 위한 복수의 손실 조건들을 반영하여 총 손실 함수를 정의하고;(b) 상기 총 손실 함수의 기울기를 계산하고, 상기 총 손실 함수의 기울기에 기초하여 상기 총 손실 함수가 최소가 되도록 메타원자의 위상 지연 제어를 위한 단일 위상 맵의 위상 분포를 반복적으로 보정하여 최적화하고;(c) 상기 최적화된 단일 위상 맵을 복수의 파장 및 편광 상태에 동일하게 적용하고;(d) 적용된 상기 단일 위상 맵에 따라, 상기 메타원자의 위상 지연 특성이 구현되도록 상기 메타표면을 형성하는 공정을 수행하는 것을 특징으로 하는 메타표면 제조 방법.
12	제 11 항에 있어서, 상기 총 손실 함수는,상기 목표 홀로그램 이미지와 상기 출력 홀로그램 이미지 사이의 정합도를 높이기 위한 정확도 손실;상기 출력 홀로그램 이미지의 비관심 영역에서의 광 확산을 억제하기 위한 배경 억제 손실;상기 복수 채널 사이의 상호 간섭을 줄이기 위한 채널 간 분리 손실;을 포함하는, 메타표면 제조 방법.
13	제 11 항에 있어서, 상기 위상 분포의 최적화는,상기 복수의 파장 및 복수의 편광 상태의 조건을 통합 반영한 단일 최적화 과정을 통해 보정되는 것인, 메타표면 제조 방법.
14	제 11 항에 있어서,상기 메타표면의 메타원자가 단일 형상으로 구성되는, 메타표면 제조 방법.
15	제 11 항에 있어서,상기 메타표면의 메타원자가 동일한 주기의 격자 배열 형태로 배치되는, 메타표면 제조 방법.
16	복수의 파장 및 복수의 편광 상태에 따라 상이한 복수 채널의 출력 홀로그램 이미지를 구현하도록 구성되는 메타표면에 있어서,(a) 상기 복수 채널의 출력 홀로그램 이미지에 대해, 목표 홀로그램 이미지와의 정합도 향상, 비관심 영역의 광 확산 억제, 및 복수 채널 간 간섭 최소화를 위한 복수의 손실 조건들을 반영하여 정의되는 총 손실 함수를 기초로;(b) 상기 복수의 파장 및 복수의 편광 상태를 통합 반영하는 단일의 최적화 과정을 통해 반복적으로 보정된 위상 분포에 따라;(c) 단일 형상의 메타원자를 기반으로 위상 지연 제어를 구현하도록 배열됨으로써;상기 복수 채널의 출력 홀로그램 이미지가 단일의 메타표면을 통해 모두 구현되도록 구성되는 것을 특징으로 하는 메타표면.
17	제 16 항에 있어서, 상기 총 손실 함수는,상기 목표 홀로그램 이미지와 상기 출력 홀로그램 이미지 사이의 정합도를 높이기 위한 정확도 손실;상기 출력 홀로그램 이미지의 비관심 영역에서의 광 확산을 억제하기 위한 배경 억제 손실;상기 복수 채널 사이의 상호 간섭을 줄이기 위한 채널 간 분리 손실;을 포함하는, 메타표면.