| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 하기 화학식 1로 표시되는 화합물과, 하기 화학식 2 내지 화학식 4로 표시되는 화합물에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 화합물, 트리플루오로아세트산(trifluoroacetic acid), 톨루엔설폰산, 메탄설폰산, 아세트산, 염산 및 황산에서 선택되는 산촉매 및 용매를 포함하는 중합조성물을 도포하고, 150 ~ 300 ℃의 온도에서 가열하는 단계를 포함하는 2차원 공액중합체 박막의 제조방법.[화학식 1](상기 화학식 1에서, 상기 L1 내지 L6는 각각 독립적으로 단일결합 또는 C1-C2의 알킬렌기에서 선택되고, 상기 R1 내지 R6는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C3의 알킬기에서 선택된다.)[화학식 2][화학식 3][화학식 4](상기 화학식 2 내지 4에서, R7 내지 R18은 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C3의 알킬기에서 선택된다.) |
| 2 | 제 1항에 있어서,상기 화학식 1은 2,3,6,7,10,11-헥사하이드록시트리페닐렌이고, 상기 화학식 2는 2,3,6,7,10,11-헥사아미노트리페닐렌이고, 상기 화학식 3은 1,2,4,5-벤젠테트라아민이고, 상기 화학식 4는 2,3,7,8-테트라아미노페나진인 2차원 공액중합체 박막의 제조방법. |
| 3 | 삭제 |
| 4 | 제 1항에 있어서,상기 가열 후, 화학적 또는 물리적으로 도핑하는 단계를 더 포함하는 2차원 공액중합체 박막의 제조방법. |
| 5 | 하기 화학식 1로 표시되는 화합물과, 하기 화학식 2 내지 화학식 4로 표시되는 화합물에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 화합물을 트리플루오로아세트산(trifluoroacetic acid), 톨루엔설폰산, 메탄설폰산, 아세트산, 염산 및 황산에서 선택되는 산촉매 하에서 150 ~ 300 ℃의 온도에서 가열하여 중합하는 단계를 포함하는 2차원 공액중합체의 제조방법.[화학식 1](상기 화학식 1에서, 상기 L1 내지 L6는 각각 독립적으로 단일결합 또는 C1-C2의 알킬렌기에서 선택되고, 상기 R1 내지 R6는 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C3의 알킬기에서 선택된다.)[화학식 2][화학식 3][화학식 4](상기 화학식 2 내지 4에서, R7 내지 R18은 각각 독립적으로 수소 또는 C1-C3의 알킬기에서 선택된다.) |
| 6 | 제 5항에 있어서,상기 화학식 1은 2,3,6,7,10,11-헥사하이드록시트리페닐렌이고, 상기 화학식 2는 2,3,6,7,10,11-헥사아미노트리페닐렌이고, 상기 화학식 3은 1,2,4,5-벤젠테트라아민이고, 상기 화학식 4는 2,3,7,8-테트라아미노페나진인 2차원 공액중합체의 제조방법. |
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