표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐, 및 이의 제조방법
Surface modified polymer hollow nanocapsules, and method for preparing the same
특허 요약
본 발명은 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 조성물을 중합하여 형성된 고분자 중공 나노캡슐이 표면 개질되어 수분산 상태에서 양의 제타 전위를 갖는, 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐 및 이의 제조방법에 관한 것이다. [화학식 1] (상기 화학식 1에서, X는 서브프탈로시아닌, 프탈로시아닌 또는 포르피린이며, L 1 은 -OR 1 - 또는 -SR 2 -이고, 이때, 상기 R 1 및 R 2 는 서로 독립적으로 직접결합, 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기, 탄소수 2 내지 10의 알케닐렌기, 탄소수 6 내지 20의 사이클로알킬렌기, 탄소수 6 내지 20의 사이클로알케닐렌기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴렌기이며; Y 1 은 비닐기, 아크릴기, 메타크릴기, 티올기 또는 아민기이며, m은 3 내지 10의 정수이다.)
청구항
번호청구항
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제 7항에 있어서,상기 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐은 10 내지 100㎷의 제타 전위를 갖는 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐의 제조방법.

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제 1항, 제 3항, 제 4항 및 제 6항에서 선택되는 어느 한 항의 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐을 포함하는 광역학 치료용 조성물.

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제 16항에 있어서,상기 광역학 치료용 조성물은 박테리아의 치료를 위한 것을 특징으로 하는 광역학 치료용 조성물.

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하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 조성물을 중합하여 형성된 고분자 중공 나노캡슐이 표면 개질되어 수분산 상태에서 양의 제타 전위를 갖는 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐로, 상기 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐은 표면에 설포늄기 또는 옥소늄기가 형성된 것인, 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐.[화학식 1](상기 화학식 1에서,X는 서브프탈로시아닌이며,L1은 -OR1- 또는 -SR2-이고, 이때, 상기 R1 및 R2는 서로 독립적으로 직접결합, 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기, 탄소수 2 내지 10의 알케닐렌기, 탄소수 6 내지 20의 사이클로알킬렌기, 탄소수 6 내지 20의 사이클로알케닐렌기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴렌기이며;Y1은 비닐기, 아크릴기, 메타크릴기, 티올기 또는 아민기이며,m은 3 내지 10의 정수이다.)

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삭제

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제 1항에 있어서,상기 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐은 평균 입경이 10 내지 500 ㎚인 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐.

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제 1항에 있어서,상기 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐은 쉘의 평균 두께가 0.5 내지 5 ㎚인 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐.

5

삭제

6

제 1항에 있어서,상기 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐은 10 내지 100㎷의 제타 전위를 갖는 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐.

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a) 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 포함하는 조성물을 중합하여 고분자 중공 나노캡슐을 제조하는 단계; 및b) 상기 고분자 중공 나노캡슐을 표면 개질하여, 수분산 상태에서 양의 제타 전위를 갖는 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐을 제조하는 단계;를 포함하며, 상기 b)단계에 의해 고분자 중공 나노캡슐의 표면에 설포늄기 또는 옥소늄기가 형성되는 것인, 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐의 제조방법.[화학식 1](상기 화학식 1에서,X는 서브프탈로시아닌이며,L1은 -OR1- 또는 -SR2-이고, 이때, 상기 R1 및 R2는 서로 독립적으로 직접결합, 탄소수 1 내지 10의 알킬렌기, 탄소수 2 내지 10의 알케닐렌기, 탄소수 6 내지 20의 사이클로알킬렌기, 탄소수 6 내지 20의 사이클로알케닐렌기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴렌기이며;Y1은 비닐기, 아크릴기, 메타크릴기, 티올기 또는 아민기이며,m은 3 내지 10의 정수이다.)

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삭제

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제 7항에 있어서,상기 a)단계는 1080℃의 온도에서 15일 동안 수행되는 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐의 제조방법.

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제 7항에 있어서,상기 b)단계는,b1) 알코올 용매에 고분자 중공 나노캡슐을 분산시킨 분산액에 할로겐화알킬인 표면개질제를 투입하고 정치하는 단계; 및b2) 투석을 이용한 정제를 통해 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐 수분산액을 수득하는 단계;를 포함하는 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐의 제조방법.

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제 10항에 있어서,상기 표면개질제는 a)단계에서의 화학식 1로 표시되는 화합물의 총 몰수를 기준으로, 10 내지 200 몰배로 첨가되는 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐의 제조방법.

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삭제

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제 7항에 있어서,상기 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐은 평균 입경이 10 내지 500 ㎚인 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐의 제조방법.

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제 7항에 있어서,상기 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐은 쉘의 평균 두께가 0.5 내지 5 ㎚인 표면 개질된 고분자 중공 나노캡슐의 제조방법.