하우징; 상기 하우징과 결합하며, 일 면이 개방된 내부 공간과, 상기 내부 공간과 연통되는 제1유로와 제2유로가 형성된 바디;상기 하우징 내부에 제공되며, 상기 제1유로를 통해 상기 내부 공간에서 유입된 가스를 순환시키고, 순환된 가스를 상기 제2유로를 통해 상기 내부 공간으로 공급하는 가스 순환 라인;상기 가스 순환 라인 상에 설치되는 에어 펌프; 및상기 에어 펌프와 상기 제2유로 사이 구간에서 상기 가스 순환 라인에 설치되며, 상기 가스 순환 라인에서 순환하는 가스를 플라스마 방전 처리하는 플라스마 발생부를 포함하는 전자 데오드란트 기기.

제 1 항에 있어서,상기 내부 공간을 제1공간과 제2공간으로 구획하며, 상기 제1유로와 연통되는 흡입구와 상기 제2유로와 연통되는 토출구가 형성된 분리판을 더 포함하되,상기 제1유로는 상기 가스 순환 라인의 일 단과 상기 제1공간을 연결하고, 상기 제2유로는 상기 가스 순환 라인의 타 단과 상기 토출구를 연결하는 전자 데오드란트 기기.

제 2 항에 있어서,상기 토출구는 상기 분리판의 중심에 형성되고,상기 흡입구는 상기 토출구의 주변에 복수 개 형성되는 전자 데오드란트 기기.

제 2 항에 있어서,상기 제2공간은 상기 분리판으로부터 상기 바디의 개방된 전면으로 갈수록 직경이 커지는 전자 데오드란트 기기.

제 1 항에 있어서,상기 플라스마 발생부는전도성 재질로 제공되고, 튜브 형상을 갖는 제1전극;상기 제1전극의 내측으로 삽입되고, 유전성 재질로 제공되며, 튜브 형상을 갖는 유전체 튜브;전도성 재질로 제공되고, 튜브 형상을 가지며, 일부가 상기 유전체 튜브의 내측으로 삽입되는 제2전극; 및상기 제1전극과 상기 제2전극에 전압을 인가하는 전원을 포함하는 전자 데오드란트 기기.

제 5 항에 있어서,상기 제1전극, 상기 유전체 튜브, 그리고 상기 제2전극은 일부 영역이 중첩되는 전자 데오드란트 기기.

제 5 항에 있어서,상기 플라스마 발생부는내부에 상기 제1전극, 상기 유전체 튜브, 그리고 상기 제2전극이 위치하는 공간을 제공하며, 유전체 재질로 제공되는 플라스마 발생 바디를 더 포함하되,상기 플라스마 발생 바디에 형성된 공간은,상기 유전체 튜브의 일 단이 위치하며, 상기 유전체 튜브의 일 단으로부터 멀어질수록 유로 폭이 감소하는 유로 감소 구간; 및상기 유로 감소 구간과 연결되며, 상기 유전체 튜브의 일 단으로부터 멀어질수록 유로 폭이 증가하는 유로 증가 구간이 형성된 전자 데오드란트 기기.

제 1 항에 있어서,상기 바디의 일 면에는 소정 길이로 전방으로 돌출된 복수 개의 돌기가 형성되는 전자 데오드란트 기기.