| 번호 | 청구항 |
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| 8 | 제1항에 있어서,상기 산화제는 Iron(III) p-toluenesulfonate인 것을 특징으로 하는 나노 구조체 제조 방법. |
| 7 | 제6항에 있어서,상기 제 1용매는 톨루엔이고, 상기 제2용매는 아세톤 또는 아세토나이트릴인 것을 특징으로 하는 나노 구조체 제조 방법. |
| 1 | (S100): 제1용매에 상기 제 1용매에 섞이지 않는 산화제 및 상기 제1 용매와 상기 산화제 모두에 섞이는 제2용매를 첨가하여 우조 에멀션을 형성하는 단계;(S200): 상기 우조 에멀션이 형성된 용액에 상기 제1용매에 섞이는 단량체를 첨가하여 고분자 나노 구조체를 중합하는 단계; 및(S300): 상기 고분자 나노 구조체를 수득하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 구조체 제조 방법. |
| 2 | 제1항에 있어서,상기 단량체는 Pyrrole, Aniline, thiophene 및 EDOT으로 구성된 군에서 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 구조체 제조 방법. |
| 3 | 제1항에 있어서,상기 S100 단계는,상기 산화제를 상기 제2용매에 용해시켜 산화제 용액을 제조하는 단계; 및상기 산화제 용액을 상기 제1용매에 첨가하고 교반하여 우조 에멀션을 형성하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 나노 구조체 제조 방법. |
| 4 | 제3항에 있어서,상기 산화제 및 상기 제2용매의 중량비는 1 : 0.5 내지 1 : 20인 것을 특징으로 하는 나노 구조체 제조 방법. |
| 5 | 제1항에 있어서,상기 제 1용매 및 제2용매의 중량비는 10 : 1 내지 4000 : 1인 것을 특징으로 하는 나노 구조체 제조 방법. |
| 6 | 제1항에 있어서,상기 산화제는 FeCl3・6H2O인 것을 특징으로 하는 나노 구조체 제조 방법. |
| 9 | 제8항에 있어서,상기 제 1용매는 톨루엔이고 상기 제2용매는 아이소프로필알코올 또는 헥사놀 이거나;상기 제1용매는 사이클로헥세인이고 상기 제2용매는 아이소프로필알코올, 아세톤, 뷰탄올 또는 헥사놀인 것을 특징으로 하는 나노 구조체 제조 방법. |
| 10 | 제1항에 있어서,상기 고분자 나노 구조체는 다공성 구조인 것을 특징으로 하는 나노 구조체 제조 방법. |
| 11 | 제1항에 있어서,상기 고분자 나노 구조체는 중공 구조 또는 사발 구조를 가지는 것을 특징으로 하는 나노 구조체 제조 방법. |
| 12 | 제1항의 나노 구조체 제조 방법에 의해 제조된 것을 특징으로 하는 나노 구조체. |
| 13 | 제12항의 나노 구조체를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐용 필름. |
| 14 | 제13항에 있어서,기판;상기 기판 상에 형성되는 제12항의 나노 구조체를 포함하는 코팅층;상기 코팅층에 침투된 PEDOT:PSS;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐용 필름. |
