| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 고분자 전구체 및 상기 고분자 전구체의 용매를 포함하는 전구체 용액을 제공하는 단계;기판에 상기 전구체 용액을 도포하여 전구체 층을 형성하는 단계;상기 전구체 층을 급속 건조하여 상기 고분자 전구체와 상기 용매를 상분리하는 단계; 및상기 상분리된 용매를 제거하여, 기공을 포함하는 고분자 매트릭스 층을 형성하는 단계를 포함하는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 2 | 제 1 항에 있어서, 상기 급속 건조는,상기 전구체 층에 상기 용매의 흡수 층을 적층하는 것에 의해 수행되는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 3 | 제 2 항에 있어서, 상기 흡수 층은 광산란용 표면 패턴의 대응 패턴을 포함하고, 상기 흡수 층을 상기 전구체 층에 적층시켜 스탬핑에 의하여 상기 표면 패턴이 상기 흡수 층의 스킨 층에 전사되는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 4 | 제 3 항에 있어서, 상기 스킨 층은 상기 전구체 층과 상기 흡수 층 사이의 계면에 형성되는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 5 | 고분자 전구체 및 상기 고분자 전구체의 용매를 포함하는 전구체 용액을 제공하는 단계;기판에 상기 전구체 용액을 도포하여 전구체 층을 형성하는 단계;상기 전구체 층의 물리적 겔화 유도 상분리에 의해 상기 고분자 전구체와 상기 용매를 상분리하는 단계; 및상기 상분리된 용매를 제거하여, 기공을 포함하는 고분자 매트릭스 층을 형성하는 단계를 포함하는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 6 | 제 5 항에 있어서,상기 물리적 겔화 유도 상분리는 상기 전구체 층을 급속 건조하는 것에 의해 수행되는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 7 | 삭제 |
| 8 | 삭제 |
| 9 | 삭제 |
| 10 | 삭제 |
| 11 | 삭제 |
| 12 | 고분자 전구체 및 상기 고분자 전구체의 용매를 포함하는 전구체 용액을 제공하는 단계;기판에 상기 전구체 용액을 도포하여 전구체 층을 형성하는 단계;상기 전구체 층에 상기 용매의 제 1 흡수 층을 적층하는 단계; 및 상기 전구체 층으로부터 기공을 포함하는 고분자 매트릭스 층을 형성하는 단계를 포함하는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 13 | 제 12 항에 있어서,상기 고분자 전구체는 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA), 폴리카보네이트(polycarbonate), 폴리스티렌(polystyrene), 폴리에스테르(polyesther), 페녹시 수지, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 실리콘 수지, 이들의 유도체, 또는 이들의 혼합물을 포함하는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 14 | 제 12 항에 있어서,상기 고분자 전구체의 용매는 톨루엔(toluene), 자일렌(xylene), 헥산(hexane), 헵탄(heptane), 클로로포름(chloroform), 에탄올(ethanol), 메탄올(methanol), 물, 메틸 에틸 케톤(methyl ethyl ketone) 또는 이들의 혼합물을 포함하는 용매를 포함하는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 15 | 제 14 항에 있어서, 상기 고분자 전구체는 전구체 용액 100 중량부에 대하여 1 내지 20 중량부로 혼합된 고분자 전구체를 포함하는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 16 | 제 12 항에 있어서, 상기 기판은 실리콘 웨이퍼, 석영, 파이렉스, 유리, 스테인레스 금속판 또는 광원 표면, 광학 소자 표면을 포함하는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 17 | 제 12 항에 있어서, 상기 전구체 층을 형성하는 단계 이전에, 상기 기판 상에 상기 용매의 제 2 흡수 층을 적층하는 단계를 포함하는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 18 | 제 12 항에 있어서,상기 제 1 흡수 층은 폴리디메틸실록산(PDMS), 폴리비닐알코올(PVA), 폴리염화비닐(PVC), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 합성 고무, 천연 고무 이들의 유도체, 또는 이들의 혼합물을 포함하는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 19 | 제 12 항에 있어서,상기 제 1 흡수 층은 광산란용 표면 패턴의 대응 패턴을 포함하고, 상기 흡수 층을 상기 전구체 층에 적층시켜 스탬핑에 의하여 상기 표면 패턴이 상기 전구체 층과 상기 흡수 층 사이의 계면에 형성된 제 1 스킨 층에 전사되는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 20 | 제 19 항에 있어서,상기 제 1 흡수 층의 상기 대응 패턴은 물리적 식각, 화학적 식각, 화학물질의 코팅 방법 중 하나 이상의 방법을 포함하는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 21 | 제 19 항에 있어서,상기 제 1 흡수 층의 상기 대응 패턴은 상기 제 1 흡수 층의 표면을 산소 플라즈마에 노출시켜 형성되는 버클링 패턴에 의해 형성되는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 22 | 제 19 항에 있어서,상기 제 1 흡수 층의 상기 대응 패턴은 마이크로렌즈 형상, 피라미드 형상, 요철 형상, 지그재그 형상, 웨이브 형상, 반구 형상 또는 이들의 혼합 형상의 대응 패턴을 포함하는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 23 | 제 12 항에 있어서,상기 흡수 층에 의해 상기 전구체 층의 표면으로부터 상기 용매를 제거하여 건조되는 상기 전구체 층 내에 상기 고분자 전구체와 상기 용매의 물리적 겔화 유도 상분리(physical gelation induced phase separation)를 통해 매트릭스 층 내 기공을 형성하고, 상기 전구체 층과 상기 흡수 층 사이의 계면에 스킨 층을 형성하는 단계를 포함하는 광확산 필름의 제조 방법. |
| 24 | 기공을 갖는 고분자 매트릭스 층; 및상기 고분자 매트릭스 층의 제 1 주면에 형성되고, 상기 고분자 매트릭스 층과 동일 조성을 가지며, 상기 고분자 매트릭스 층의 밀도보다 더 큰 밀도를 갖는 제 1 스킨 층을 포함하는 고분자 구조체. |
| 25 | 제 24 항에 있어서, 상기 고분자 구조체는, 광학 부재, 방음 부재, 단열 부재, 멤브레인, 필터, 유효 물질의 담지 구조체, 유효 물질의 전달 부재인 고분자 구조체. |
