제1항에 있어서,상기 공진 조절 구조는,플라즈마가 포함되는 챔버와 상기 플라즈마에 자기장을 인가하는 안테나 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 공진 조절 구조를 이용한 자기장 제어 시스템.

공진 조절 구조;를 포함하고,상기 공진 조절 구조는,몸체; 및상기 몸체에 형성된 적어도 하나의 충진 유로;를 포함하고,상기 충진 유로에는 충진되는 액체 금속의 양에 의해 상기 공진 조절 구조에 의해 매개되는 자기장 세기의 공간적 분포가 조절되는 것을 특징으로 하는 공진 조절 구조를 이용한 자기장 제어 시스템.

제1항에 있어서,상기 충진 유로는 상기 몸체의 서로 다른 위치에 복수 개로 형성되고,상기 충진 유로 각각에 충진되는 액체 금속의 양에 의해 상기 몸체에 의해 매개되는 자기장 세기의 공간적 분포가 조절되는 것을 특징으로 하는 공진 조절 구조를 이용한 자기장 제어 시스템.

제1항에 있어서,상기 충진 유로는 유입구 및 배출구를 포함하고,상기 액체 금속은 상기 유입구를 통한 유입 및 상기 배출구를 통한 배출 중 적어도 하나의 동작을 통해 충진량이 결정되는 것을 특징으로 하는 공진 조절 구조를 이용한 자기장 제어 시스템.

제1항에 있어서,상기 충진 유로에 공급되는 액체 금속의 유량을 조절하는 유량 조절부; 및자기장의 제어 정도를 상기 액체 금속 충진량과 매칭하여 상기 유량 조절부를 제어하는 제어부;를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 공진 조절 구조를 이용한 자기장 제어 시스템.

제4항에 있어서,상기 유량 조절부는 상기 충진 유로로부터 배출되는 액체 금속의 유량도 조절하는 것을 특징으로 하는 공진 조절 구조를 이용한 자기장 제어 시스템.

제5항에 있어서,상기 유량 조절부는 자기장에 반응하지 않는 수송 유체를 상기 액체 금속이 충진된 충진 유로에 주입하여 충진된 액체 금속을 배출하는 것을 특징으로 하는 공진 조절 구조를 이용한 자기장 제어 시스템.

제1항에 있어서,상기 충진 유로는 코일 형상으로 형성되며,유로 직경(w), 코일 높이(h), 1회전 코일 간 간격(p), 코일의 감은 수(N) 및 코일 직경(d) 중 적어도 하나를 기하학적 변수로 포함하는 것을 특징으로 하는 공진 조절 구조를 이용한 자기장 제어 시스템.

제7항에 있어서,상기 유로 직경은 w=200μm, 상기 1회전 코일 간 간격 p=1.28mm, 코일 직경은 5mm 내지 25mm인 것을 특징으로 하는 공진 조절 구조를 이용한 자기장 제어 시스템.

제2항에 있어서,상기 충진 구조는 제1 방향 및 상기 제1 방향에 수직한 제2 방향을 따라 일정 간격 마다 배치되는 구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 공진 조절 구조를 이용한 자기장 제어 시스템.

제1항에 있어서,상기 공진 조절 구조는,플라즈마 장비의 정전척 엣지(edge)에 설치되는 포커스 링(focus ring) 위치에 배치되는 것을 특징으로 하는 공진 조절 구조를 이용한 자기장 제어 시스템.

제1항에 있어서,상기 공진 조절 구조는,플라즈마 장비의 사이드 월(side wall) 측으로부터 챔버 내부로 인가되는 자기장을 조절하기 위하여 상기 사이드 월 상에 설치되는 것을 특징으로 하는 공진 조절 구조를 이용한 자기장 제어 시스템.