| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 적어도 하나의 명령어(instruction)을 포함하는 메모리;카메라부; 및상기 메모리에 저장된 상기 적어도 하나의 명령어를 실행하는 적어도 하나의 프로세서를 포함하고, 상기 프로세서는, 액체금속 액적과 액적을 수송하기 위한 수송유체의 유량비에 기초한 액체금속 액적 사이의 간격 및 액체금속 액적의 길이를 포함하는 액적 정보를 설정하고,상기 수송유체의 유량의 세기, 수송유체의 점성 및 액체금속과 수송유체 사이의 표면 에너지를 이용하여 액체금속 액적의 생성을 위한 제어 파라미터를 설정하고, 플라즈마 제어를 위해 플라즈마 장비 내부에 형성된 액체금속이 수송될 수 있는 적어도 하나의 채널에 상기 액적 정보 및 제어 파라미터에 기초하여 생성된 액체금속 액적과 수송유체를 주입하고,상기 카메라부를 제어하여 액체금속 액적이 상기 채널에 구비된 적어도 하나의 전극에 닿을 때 변화하는 플라즈마에 대한 영상데이터를 획득하여 상기 액체금속 액적의 수송에 의한 플라즈마의 제어결과를 표시하는 것을 특징으로 하는 전자장치. |
| 2 | 삭제 |
| 3 | 제1항에 있어서, 상기 프로세서는, 상기 액체금속 액적이 상기 채널에서 수송되도록 상기 액체금속 액적의 유량 및 상기 수송유체의 유량을 제어하는 것을 특징으로 하는 전자장치. |
| 4 | 삭제 |
| 5 | 삭제 |
| 6 | 삭제 |
| 7 | 삭제 |
| 8 | 제3항에 있어서, 상기 프로세서는, 상기 채널에 구비된 전극의 개수, 상기 전극의 위치 및 상기 액체금속 액적의 위치를 조합하거나 상기 채널에 구비된 전극에 인가하는 전기장의 형태를 변경하여 전기장의 세기를 조절하는 것을 특징으로 하는 전자장치. |
| 9 | 제1항에 있어서, 상기 채널은, 포커스링 내부에 상기 포커스링과 일체형으로 구현되거나, 상기 포커스링에 삽입되는 것을 특징으로 하는 전자장치. |
| 10 | 전자장치가 액체금속 액적과 액적을 수송하기 위한 수송유체의 유량비에 기초한 액체금속 액적 사이의 간격 및 액체금속 액적의 길이를 포함하는 액적 정보를 설정하는 단계;상기 전자장치가 상기 수송유체의 유량의 세기, 수송유체의 점성 및 액체금속과 수송유체 사이의 표면 에너지를 이용하여 액체금속 액적의 생성을 위한 제어 파라미터를 설정하는 단계;상기 전자장치가 플라즈마 제어를 위해 플라즈마 장비 내부에 형성된 적어도 하나의 채널에 상기 액적 정보 및 제어 파라미터에 기초하여 생성된 액체금속 액적과 수송유체를 주입하는 단계; 및 상기 전자장치가 카메라부를 통해 액체금속 액적이 상기 채널에 구비된 적어도 하나의 전극에 닿을 때 변화하는 플라즈마에 대한 영상데이터를 획득하여 상기 액체금속 액적의 수송에 의한 플라즈마의 제어결과를 표시하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 제어 방법. |
