| 번호 | 청구항 |
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| 1 | 광원을 발생시키는 광원 파트;상기 광원 파트로부터 조사된 상기 광원을 분산하는 분산 파트; 및상기 분산 파트로부터 분산된 상기 광원을 기밀 장치의 채널로 집광하는 집광 파트를 포함하고,상기 채널에 집광된 상기 광원이 상기 채널에서의 기류 및 입자 거동을 가시화하는, 기밀 장치의 기류 및 입자의 거동을 가시화하는 장치. |
| 2 | 제1항에 있어서,상기 집광 파트는,상기 채널의 외측 둘레를 둘러싸는 슬리브; 및상기 슬리브의 내측 둘레에 설치되어, 상기 분산 파트로부터 분산된 상기 광원을 상기 채널로 반사시키는 미러를 포함하는, 기밀 장치의 기류 및 입자의 거동을 가시화하는 장치. |
| 3 | 제2항에 있어서,상기 슬리브와 상기 미러는 환 형태를 갖는, 기밀 장치의 기류 및 입자의 거동을 가시화하는 장치. |
| 4 | 제1항에 있어서,상기 분산 파트는 발산 렌즈 또는 빔 스플리터인, 기밀 장치의 기류 및 입자의 거동을 가시화하는 장치. |
| 5 | 제1항에 있어서상기 광원은 레이저인, 기밀 장치의 기류 및 입자의 거동을 가시화하는 장치. |
| 6 | 제5항에 있어서상기 레이저의 파장은 470nm 내지 570nm이고, 상기 레이저의 출력은 1mw 내지 100mw인, 기밀 장치의 기류 및 입자의 거동을 가시화하는 장치. |
| 7 | 제1항에 있어서,상기 기밀 장치의 내부에는 상기 광원을 흡수하여 방출하는 복수의 추적 입자가 배치되는, 기밀 장치의 기류 및 입자의 거동을 가시화하는 장치. |
| 8 | 제7항에 있어서,상기 추적 입자는 풀러렌인, 기밀 장치의 기류 및 입자의 거동을 가시화하는 장치. |