제9항에 있어서,상기 반응 단계에서,상기 반응조 내의 온도는 35 ~ 45℃로 유지되는 것을 특징으로 하는, 골재 이산화탄소 처리 방법.

제6항에 있어서,상기 반응 단계에서,상기 반응조 내의 압력은 400 ~ 600kPa로 유지되는 것을 특징으로 하는, 골재 이산화탄소 처리 방법.

골재가 투입되는 투입구, 및 상 투입된 골재를 수용하는 바스켓을 포함하는 반응조; 상기 투입된 골재와 이산화탄소의 균질 반응을 위해 상기 골재를 교반하는 구동 장치;상기 반응조의 온도를 일정하게 유지하기 위한 항온 수조; 및상기 반응조에 이산화탄소를 공급하기 위한 공급 탱크;를 포함하는, 골재 이산화탄소 처리 장치.

제1항에 있어서,상기 반응조에 수분을 공급하기 위해 물을 분사하는 물 분사장치를 더 포함하는, 골재 이산화탄소 처리 장치.

제2항에 있어서,상기 구동 장치는 상기 반응조 내의 바스켓을 회전시키거나, 또는일단은 상기 구동 장치의 회전축에 연결되고, 끝부분에는 상기 반응조 내부와의 마찰을 최소화하기 위해 저마찰 소재로 형성된 스크래퍼가 설치되는 임펠러를 회전시켜 골재를 교반하는, 골재 이산화탄소 처리 장치.

제2항에 있어서,상기 반응조의 기울기를 조절하기 위한 기울기 조절 장치를 더 포함하고,상기 기울기 조절 장치는, 상기 반응조의 설치 및 해체시 반응조를 기울일 수 있도록 하기 위한 유압잭을 포함하는, 골재 이산화탄소 처리 장치.

제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 골재 이산화탄소 처리 장치와,반응조 내의 압력 및 온도, 반응조 회전 속도 측정 및 기록하기 위한 데이터 로깅 장치를 포함하는, 골재 이산화탄소 처리 시스템.

제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 골재 이산화탄소 처리 장치를 이용하여 골재에 이산화탄소를 처리하는 방법으로서,상기 반응조의 투입구로 골재를 투입하는 골재 투입 단계;상기 골재와의 반응을 위해 반응조 내부에 이산화탄소를 주입하는 이산화탄소 주입 단계;상기 골재 표면이 이산화탄소와 원활하게 접촉하여 균질 반응이 일어나도록 교반하는 교반 단계; 상기 반응조 내부의 온도와 이산화탄소 압력을 유지하여 이산화탄소 처리 반응이 일어나도록 하는 반응 단계; 및상기 반응기 내부 압력 제거 후 상기 투입구의 뚜껑을 열어 골재를 꺼내는 골재 회수 단계;를 포함하는, 골재 이산화탄소 처리 방법.

제6항에 있어서,상기 골재 투입 단계 후,반응조 내부의 습도 유지를 위해 실리카겔을 투입하는, 실리카겔 투입 단계;를 더 포함하고, 상기 반응 단계에서, 상기 반응조 내의 습도는 20 ~ 40%로 유지되는 것을 특징으로 하는, 골재 이산화탄소 처리 방법.골재 이산화탄소 처리 방법.

제6항에 있어서, 상기 이산화탄소 주입 단계 이전에,상기 반응조 내의 골재의 수분 처리를 위해 물을 스프레이하는 수분 처리 단계;를 더 포함하고,상기 수분 처리 단계 후 순환골재의 초기 수분함량이 40 ~ 60%인 것을 특징으로 하는, 골재 이산화탄소 처리 방법.